木村 景一 | 九州工業大学大学院
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概要
関連著者
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木村 景一
九州工業大学
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木村 景一
九州工大
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木村 景一
九州工業大学大学院
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カチョーンルンルアン P.
阪大
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カチョーンルンルアン パナート
九州工業大学
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永山 勝也
九州工大
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橋山 雄一
九州工業大学大学院
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パナート カチョーンルンルアン
九工大
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永山 勝也
九州工業大学情報工学部
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永山 勝也
九工大
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永山 勝也
九州工業大学
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木村 景一
九工大
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永山 勝也
九工大情報工
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酒井 智美
TOTO(株)
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橋山 雄一
九州工業大学
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和田 なぎさ
九州工業大学
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パナート カチョーンルンルアン
九州工業大学
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田中 和博
九州工業大学情報工学部機械情報工学科
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田中 和博
九州工業大学
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カチョーンルンルアン パナート
九工大
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橋山 雄一
九工大
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高橋 直亮
九工大情
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上野 和樹
九州工業大学
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松本 匡史
九州工業大学情報工学部
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神武 佳宏
九工大
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森下 浩文
九州工業大学情報工学部
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酒井 智美
九州工業大学院
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川本 佳史
CASMAT次世代半導体材料技術研究組合
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酒井 智美
九州工大院
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今城 真
九州工業大学大学院
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岡本 英一郎
九州工業大学・情報工学部
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和田 なぎさ
九州工大
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カチョーンルンルアン パナート
九州工大
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李木 宣孝
九工大
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アパラサミ ムラリ・ラオ
九工大
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安田 佳祐
九州工業大学大学院
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田中 明穂
九州工業大学
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出井 良和
九工大院
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木村 景一
Kyushu Institute of Technology
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カチョーンルンルアン パナート
Kyushu Institute of Technology
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今城 真
九州工業大学大学院情報工学府情報システム専攻
著作論文
- 角形石英ガラス研磨におけるスラリー流れに関する研究
- 21107 CMPプロセスにおける材料除去モデルの研究 : 第三報-スラリー中の微粒子による材料除去現象の検討(プロセス技術,OS.3 機械工学が支援する微細加工技術(半導体,MEMS,NEMS))
- 21415 CMPプロセスにおける材料除去モデルの研究 : 第二報-原子間力顕微鏡を用いた材料除去現象の検討(CMP,OS.1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS),学術講演)
- K14 MEMS技術を用いたCMPマイクロパターンパッドの研究 : マイクロパターンパッド表面形状の特性評価(K1 加工・生産システム2(ポリシング,CMP))
- K13 CMPにおけるウェハおよびポリシングパッドの温度変化に関する研究(K1 加工・生産システム2(ポリシング,CMP))
- K12 SiC単結晶に対する紫外光照射の及ぼす影響(K1 加工・生産システム2(ポリシング,CMP))
- K11 ArFエキシマレーザによるPCDのUV-ポリシングの研究(K1 加工・生産システム2(ポリシング,CMP))
- CMPにおけるウエハとパッドすきま内スラリー流れの数値解析 : 溝なし,同心円溝,放射状溝での比較(流体工学,流体機械)
- 1450 CMP回転パッドの上におけるスラリー液膜流動解析(S38-4 混合・界面,S38 マイクロ・ナノフルイズ)
- 2相流モデルを用いたCMPにおける回転パッド上のスラリー液膜流動数値解析(流体工学,流体機械)
- 世界トップの半導体材料を目指して(グラビアとインタビュー精密工学の最前線)
- B12 CMPパッド上に滴下されたスラリーの流動シミュレーション(B1 流体工学(液膜流れ))
- H13 CMPにおけるウェット条件下のポリシングパッド-ウェハ間の接触状態観察法に関する研究(H1 加工(CMP-1))
- H12 角型形状大型石英ガラス基板のCMPにおけるスラリー流れの研究(H1 加工(CMP-1))
- H11 紫外光照射Cu-CMPの研磨特性に関する研究(H1 加工(CMP-1))
- 307 MEMS技術を応用したCMP用マイクロパターンパッドの研究 : 異なる形状パターンによる研磨レートの比較(GS 生産加工I)
- 20305 CMPプロセスにおける材料除去モデルの研究 : 第四報 : スラリー中の微粒子の機能に関する研究(OS3 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS)(2),オーガナイズドセッション)
- 715 CMPにおける研磨パッドのスラリー排出・供給性能の解析(GS 流体工学X)
- 309 層間絶縁膜CMPプロセスにおけるスラリー中の微粒子の挙動観察(GS 生産加工I)
- 高速加工における小径工具の高精度オンマシン計測 (特集 工作機械の高精度化を保証するインプロセス/オンマシン計測技術の最新動向)