パナート カチョーンルンルアン | 九工大

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概要

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• パナート カチョーンルンルアン

  九工大

• 木村 景一

  九州工業大学

• 木村 景一

  九州工大

• 木村 景一

  九州工業大学大学院

• 木村 景一

  九工大

• パナート カチョーンルンルアン

  九州工業大学

• 橋山 雄一

  九州工業大学大学院

• 高橋 直亮

  九工大情

• 上野 和樹

  九州工業大学

• 和田 なぎさ

  九州工業大学

• 松本 匡史

  九州工業大学情報工学部

• 神武 佳宏

  九工大

• 橋山 雄一

  九州工業大学

• 鈴木 恵友

  九工大

• 齊藤 貴志

  九工大

• 是澤 龍哉

  九工大

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著作論文

• K14 MEMS技術を用いたCMPマイクロパターンパッドの研究 : マイクロパターンパッド表面形状の特性評価(K1 加工・生産システム2(ポリシング,CMP))
• K13 CMPにおけるウェハおよびポリシングパッドの温度変化に関する研究(K1 加工・生産システム2(ポリシング,CMP))
• K12 SiC単結晶に対する紫外光照射の及ぼす影響(K1 加工・生産システム2(ポリシング,CMP))
• K11 ArFエキシマレーザによるPCDのUV-ポリシングの研究(K1 加工・生産システム2(ポリシング,CMP))
• 20102 CMPにおけるポリシングパッド表面のモデル化の試み(機械工学が支援する半導体製造技術,OS1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS))
• K22 水酸化フラーレン混合スラリーを用いたAl203-CMPに関する研究(K2CMPI)

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