松澤 一也 | 東芝LSI基盤技術ラボラトリー

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概要

• 同名の論文著者
• 東芝LSI基盤技術ラボラトリーの論文著者

関連著者

• 松澤 一也

  東芝LSI基盤技術ラボラトリー

• 大黒 達也

  (株)東芝セミコンダクタ社SoC研究開発センター

• 百瀬 寿代

  (株)東芝セミコンダクタ社SoC研究開発センター

• 大黒 達也

  東芝セミコンダクター社:広島大学

• 大黒 達也

  東芝セミコンダクター社

• 百瀬 寿代

  (株)東芝研究開発センターulsi研究所

• 石丸 一成

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 青木 伸俊

  株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 大黒 達也

  東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 百瀬 寿代

  東芝セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 小島 健嗣

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 青木 伸俊

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 岡山 康則

  東芝セミコンダクタ一社

• 松永 健

  東芝セミコンダクタ一社

• 石丸 一成

  東芝セミコンダクタ一社

• 松澤 一也

  (株)東芝 ULSI研究所

• 三谷 祐一郎

  東芝

• 三谷 祐一郎

  (株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー

• 三谷 祐一郎

  芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 松澤 一也

  (株)東芝 研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 東 悠介

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 百々 信幸

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター高性能CMOSデバイス技術開発部

• 百々 信幸

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター 高性能CMOSデバイス技術開発部

• 大黒 達也

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター 高性能CMOSデバイス技術開発部

• 百瀬 寿代

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター 高性能CMOSデバイス技術開発部

• 東 悠介

  (株)東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 三谷 祐一郎

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 東 悠介

  株式会社東芝

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著作論文

• 1/f noiseのプロセス依存性 : 高性能アナログ回路の実現に向けて(VLSI回路, デバイス技術(高速, 低電圧, 低電力))
• 1/f noiseのプロセス依存性 : 高性能アナログ回路の実現に向けて(VLSI回路, デバイス技術(高速, 低電圧, 低電力))
• ACストレス下のNBTIに及ぼす極薄SiON膜中窒素プロファイルの影響
• デバイスシミュレーションによるランダムテレグラフノイズの本質的理解(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)

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