荒井 和雄 | 産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
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概要
関連著者
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荒井 和雄
産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
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荒井 和雄
産業技術総合研究所
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安達 和広
産業技術総合研究所
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荒井 和雄
独立行政法人産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
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八尾 勉
独立行政法人産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
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安達 和広
産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
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岡本 光央
独立行政法人産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
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岡本 光央
産業技術総合研究所
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八尾 勉
産業技術総合研究所
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福田 憲司
産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
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原田 信介
独立行政法人産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
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福田 憲司
産業技術総合研究所
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加藤 真
産業技術総合研究所
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原田 信介
産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
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八尾 勉
独立行政法人産業技術総合研究所 パワーエレクトロニクス研究センター
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荒井 和雄
独立行政法人産業技術総合研究所 パワーエレクトロニクス研究センター
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福田 憲司
産業技術総合研
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田中 保宣
産業技術総合研究所
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高塚 章夫
産業技術総合研究所
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矢野 浩司
山梨大学大学院
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高尾 和人
東芝
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高尾 和人
独立行政法人産業技術総合研究所 パワーエレクトロニクス研究センター
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福田 憲司
独立行政法人産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
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荒井 和雄
Advanced Industrial Science and Technology (AIST)
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田中 保宣
独立行政法人産業技術総合研究所
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福田 憲司
独立行政法人産業技術総合研究所
著作論文
- 埋込ゲート型SiC-SIT(BGSIT)の設計・試作及び電気特性評価
- SiCショットキーバリアダイオードの高di/dtスイッチング特性
- 4.3mΩcm^2, 1100VノーマリオフSiC IE-MOSFET
- 2.7mΩcm^2, 700Vを有する4H-SiC C面IEMOSFET
- 4.3mΩcm^2, 1100VノーマリオフSiC IE-MOSFET
- パワーエレクトロニクス分野の新しい息吹 (創刊88周年記念特集 わが国産業技術の再生を目指す)
- 日本におけるSiC研究開発の現状と展望(第15回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2007))
- 日本におけるSiC研究開発の現状と展望(第15回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2007))
- 新規半導体(SiC,GaN)のパワーエレクトロニクスへの展開
- SiCパワーデバイス実用化へのシナリオ