Porous Low-k膜対応Direct-CMPプロセス開発 (シリコン材料・デバイス)
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概要
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- 2010-02-05
著者
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興梠 隼人
パナソニック株式会社
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千葉原 宏幸
株式会社ルネサステクノロジ
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鈴木 繁
パナソニック株式会社
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筒江 誠
パナソニック株式会社
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瀬尾 光平
パナソニックセミコンダクターエンジニアリング株式会社
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岡 好浩
株式会社ルネサステクノロジ
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後藤 欣哉
株式会社ルネサステクノロジ
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赤澤 守昭
株式会社ルネサステクノロジ
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宮武 浩
株式会社ルネサステクノロジ
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松本 晋
パナソニック株式会社
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上田 哲也
パナソニック株式会社
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