稀薄銅合金酸化薄膜中の組成変化
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概要
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The Auger electron microanalysis technique has been applied to investigate the compositional change in oxide thin films formed on dilute copper alloys which contain aluminum. In oxidation at 300°C in oxygen pressure of 10 Torr, the grain boundary in the metal played an important role as a short circuit diffusion path. That is, a selective oxidation occured at grain boundary, in spite of such a low aluminum content as 0.05 wt%. The compositional distribution of aluminum changed in depth-direction and showed some depletion near the metal-oxide interface. The results revealed that these films formed at low temperature may have compositional distributions remote from those formed at high temperature. And the technique has been proved to be a valuable one in studying the process of low temperature oxidation.
- 日本真空協会の論文
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