ビスマス薄膜の酸化
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概要
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In order to investigate the oxidation process of evaporated Bi thin films, the time dependence of X-ray diffraction during the process was studied for the various oxidation conditions.<BR>It was found that the diffraction intensity is proportional to the square root of oxidation time for a slow oxidation condition showing that the oxidation is controled by a diffusion process. However, it tends to saturate at the end of the oxidation. In the case of a fast oxidation, the saturation appears at much earlier time such as several ten seconds.<BR>Bi<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> film during the oxidation has a cubic structure which stands for a metastable phase (β-phase). After a complete oxidation, the film begins to change to α-phase which has been known a low temperature stable phase.<BR>All films as well as Bi films are found to be almost complete polycrystalline except a week (111) orientational growth.
- 日本真空協会の論文
著者
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西尾 光弘
佐賀大学理工学部電気電子工学科
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籠田 和徳
佐賀大学理工学部
-
西永 頌
豊橋技術科学大学
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西永 頌
豊橋技術科学大学電子電気工学科
-
西尾 光弘
佐賀大学理工学部電気工学教室
-
籠田 和徳
佐賀大学理工学部電気工学教室
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