シンクロトロン光励起プロセスの半導体応用と展望
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概要
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Synchrotron light-excited process is one of the promising techniques for future semiconductor processes. In this report, we introduce several examples of the application of the synchrotron light-excited process on the semiconductor development, and focus especially on the growth and etching of II-VI compound semiconductor. In addition, the outline of a beamline for the development of advanced materials and processing at Saga Light Source is reported as a future perspective of the synchrotron light-excited process.
- 社団法人 電気学会の論文
- 2007-02-01
著者
-
郭其 新
佐賀大学理工学部
-
郭 其新
佐賀大学理工学部電気電子工学科
-
田中 徹
佐賀大学シンクロトロン光応用研究センター
-
西尾 光弘
佐賀大学理工学部電気電子工学科
-
小川 博司
佐賀大学シンクロトロン光応用研究センター
-
本岡 輝昭
九州大学大学院工学研究院材料工学部門
-
本岡 輝昭
九州大学大学院工学研究科材料物性工学専攻
-
本岡 輝昭
九大 大学院
-
西尾 光弘
佐賀大学理工学部電気工学教室
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