閉管法におけるZnTe気相成長の解析的考察
スポンサーリンク
概要
著者
-
西尾 光弘
佐賀大学理工学部電気電子工学科
-
小川 博司
佐賀大学シンクロトロン光応用研究センター
-
小川 博司
佐賀大学理工学部
-
中村 義広
佐賀大学工学研究科
-
西尾 光弘
佐賀大学理工学部電気工学教室
関連論文
- SAGA Light Source の現状及びシンクロトロン光を用いたプロセス技術
- シンクロトロン光励起プロセスの半導体応用と展望
- 佐賀県立九州シンクロトロン光研究センター事業の現状と利用計画
- 光照射MOVPE成長によるZnTe膜のフォトルミネッセンス : エピタキシャル成長IV
- 22aB6 有機金属原料を用いたシンクロトロン放射光によるZnTeのホモエピタキシャル成長(気相成長I)
- マイクロ波プラズマ化学気相法によるダイヤモンド薄膜の成長
- Ga 溶液 SiLPE における基板面方位の効果 : エピタキシー II
- A1 ドープ ZnTe の MOVPE 成長 : エピタキシー I
- p型ZnTeへのオーミックコンタクト : 薄膜
- ダイヤモンド薄膜の製造技術の開発及び電子部品生産技術への応用に関する研究(III)