Bi<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>, 薄膜の電気的性質

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 日本真空協会の論文

著者

• 籠田 和徳

  佐賀大学理工学部

• 西永 頌

  豊橋技術科学大学

関連論文

• ダイヤモンド薄膜の製造技術の開発及び電子部品生産技術への応用に関する研究(II)
• ダイヤモンド薄膜の製造技術の開発及び電子部品生産技術への応用に関する研究
• A. A. Chernov編, J. E. S. Bradley訳: Growth of Crystals, Vol. 11, Consultants Bureau, New York, 1979, ix+386ページ, 28×22cm, 14,790円.
• 21世紀を展望する(21世紀を拓く薄膜結晶成長)
• MBE成長AlGaAs系材料への酸素混入のメカニズム : エピキタシャル成長I
• リッジ基板を用いたGaAs低角入射分子線エピタキシー : 入射角の効果 : エピキタシャル成長I
• Si(001)基板上での非晶質GaAsバッファ層の結晶化メカニズム
• 融液成長Al_xGa_Sb におけるファセット部オフファセット部でのミクロな組成変動
• Si(001)表面ステップハンチングに及ぼすAs照射の効果とGaAsバッファ層の結晶化過程 : エピタキシャル成長III
• B-010 現代GP「持続可能な社会につながる環境教育の推進」における持続社会コーディネーター育成の試み : 持続可能技術と社会の橋渡しを目指す教育プログラムの構築(ポスター発表論文,(B)工学教育に関するGood Practice)
• 03aA01 バルク成長分科会設立のころ : 原点を振り返り今後を考える(バルク成長シンポジウム(1),第36回結晶成長国内会議)
• ヘテロエピタキシにおける無転位技術 : マイクロチャネルエピタキシ : その可能性を探る(学会統合記念)
• 26aE01 面間拡散とその応用 : マイクロ・ナノ構造の作製に向けて(ナノエピシンポジウム,第34回結晶成長国内会議)
• 格子定数差の大きなヘテロエピタキシーにおける無転位結晶成長技術 : マイクロチャネルエピタキシー : 発想の原点と将来展望
• 結晶成長学会とともに(歴代会長挨拶,第1章 挨拶,日本結晶成長学会創立30周年記念)
• フライブルグ大学 K.W.Benz 教授退官記念コロキューム
• 技術教育の多様性
• グローバルな視点からの自動車技術
• 日本の大学の実力(私の意見)
• 日本マイクログラビティ応用学会会報発刊のころ
• 第13回結晶成長国際会議(ICCG-13/ICVGE-11)(第13回結晶成長国際会議(ICCG-13/ICVGE-11))
• マイクロプローブ-RHEED/SEM MBEによるGaAsピラミッド形成の実時間観察と形態制御 : エピタキシャル成長III
• 化合物半導体における格子不整合とマイクロチャネルエピタキシー
• 半導体液相成長モルフォロジーの実験的理論的研究(結晶のモルフォロジー)
• O_2ドープしたInP LPE層の電気的特性と表面モルホロジー
• 2段スイッチング・メモリー現象
• フライブルグ大学K.W.Benz教授退官記念コロキューム(閑話休題)
• 塩化水素を用いた開管化学気相法によるZnTeの成長特性
• 人工二重膜の電気的特性
• アブストラクト
• InSbのトンネル分光
• 酸化ビスマス薄膜の光起電力効果
• Haywardの回転型ゴム・エンジンについて
• Bi2O3薄膜の電導機構
• Bi2O3, 薄膜の電気的性質
• ビスマス薄膜の酸化
• 熱刺激電流測定法によるBi2O3薄膜のトラップの評価
• Bi2O3蒸着膜の酸化過程 (第24回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク