ドープした金属シリサイドの電子構造に関する理論的検討(ショートプレゼンテーション,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

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概要

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• 社団法人電子情報通信学会の論文
• 2009-06-12

著者

• 中山 隆史

  千葉大学理学部

• 中山 隆史

  千葉大学理学研究科基盤理学専攻

• 五月女 真一

  千葉大学理学研究科基盤理学専攻

• 五月女 真一

  千葉大学理学研究料

• 中山 隆史

  千葉大学理学研究料

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