キャラクタプロジェクション法における描画面積の最適化による描画時間の削減(組込技術とネットワークに関するワークショップETNET2006)
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概要
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本稿では,キャラクタプロジェクション法の描画能力を高めるために,描画面積を最適する手法について議論する.キャラクタプロジェクション法は電子ビーム直描やフォトマスクの製造に応用可能な描画技術である.描画装置の減価償却の意味で,キャラクタプロジェクション法の描画時間は電子デバイスやフォトマスクの価格を決定するものであり,削減されることが望ましい.本稿では,CPマスク上に配列上に搭載されるキャラクタの大きさを最適化することによって,描画時間を最小にする手法を提案する.提案手法により,既存の手法と比べて最大72%の描画時間を削減した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-03-10
著者
-
村上 和彰
九州大学大学院システム情報科学府
-
村上 和彰
九州大学:戦略的創造研究推進事業
-
松永 裕介
九州大学大学院システム情報科学研究院
-
杉原 真
豊橋技術科学大学情報工学系
-
杉原 真
九州大学大学院システム情報科学研究科情報工学専攻
-
杉原 真
財団法人九州システム情報技術研究所
-
中村 健太
九州大学
-
中村 健太
九州大学大学院 システム情報科学研究院 情報理学部門
-
中村 健太
九州大学大学院システム情報科学研究院情報理学専攻
-
高田 大河
九州大学大学院システム情報科学研究院情報工学専攻
-
杉原 真
豊橋技術科学大学大学院工学研究科情報・知能工学系|独立行政法人科学技術振興機構 Crest
-
杉原 真
豊橋技術科学大学:独立行政法人科学技術振興機構 Jst
-
高田 大河
九州大学大学院システム情報科学研究院
-
村上 和彰
九州大学大学院 システム情報科学研究院 情報知能工学部
-
村上 和彰
九州大学大学院 システム情報科学研究院 情報理学部門
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