エキシマレーザアブレーション法による蛍光表示管(VFD)用ZnO : Zn緑色蛍光体薄膜の作製と評価
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概要
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ZnO : Zn蛍光体薄膜をレーザアブレーション法により作製した。300℃という低い基板温度で成膜し、成膜後にアニールを行わなかったにも関わらず、ZnO : Zn薄膜は良い結晶性を示した。また、これらの薄膜からZnO : Zn特有の緑白色のPL発光が得られた。薄膜中の発光中心濃度はペレットの組成とチャンバー中の雰囲気ガスにより制御できると思われる。
- 1998-10-23
著者
-
田中 省作
鳥取大学工学部
-
小林 洋志
鳥取大学工学部
-
大観 光徳
鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻
-
植木 亮裕
鳥取大学工学部
-
谷國 敬理
鳥取大学工学部
-
小林 洋志
鳥取大学
-
谷國 敬理
鳥取大学工学部電気電子工学科
-
植木 亮裕
鳥取大学工学部電気電子工学科
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