SrS:Ce薄膜EL素子の作製時における成長槽内の残留水分の影響
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2003-01-27
著者
-
大観 光徳
鳥取大学工学部
-
木村 隆宏
鳥取大学工学部
-
田中 省作
鳥取大学工学部
-
高須 康輔
鳥取大学工学部
-
岡 秀和
鳥取大学工学部
-
小林 洋志
鳥取大学工学部
-
深田 晴己
静岡大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー
-
深田 晴己
静岡大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー
-
大観 光徳
鳥取大学工学研究科電気電子工学専攻
-
深田 晴己
静岡大学サテライト・ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー
-
小林 洋志
鳥取大学
関連論文
- 青色無機EL材料Ba_2SiS_4:Ceの成膜・アニール方法の検討(ディスプレイに関する技術全般,LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品・材料及び応用技術,発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- 青緑色発光ZnS:Cu,Cl薄膜蛍光体の作製(ディスプレイに関する技術全般:LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品,材料及び応用技術,発光・非発光型ディスプレイ合同研究会)
- 青色無機EL材料Ba_2SiS_4:Ceの成膜・アニール方法の検討(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- スピンコーティング法による(Ba,Sr)TiO_3絶縁層を用いた薄膜EL素子の作製とエージング特性の評価
- スピンコーティング法による(Ba,Sr)TiO_3絶縁層を用いた薄膜EL素子の作製とエージング特性の評価(ディスプレイに関する技術全般:LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品,材料及び応用技術,発光・非発光型ディスプレイ合同研究会)
- GaドープZnO薄膜における不揮発性抵抗変化現象の成膜雰囲気依存性
- 大面積透明フレキシブルオールGaドープZnO抵抗変化メモリ(ReRAM)の作製と評価
- 高周波マグネトロンスパッタ法によるBaTiO_3/Pt自立膜の作製と評価
- SrS:Ce薄膜EL素子におけるCe^発光特性に対するH_2O供給の効果
- 電子線蒸着法により作製したCaS:Tb^緑色薄膜EL素子の基礎的研究