エンボス法とフォトブリーチング法を組み合わせた電気光学高分子光回路作製
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概要
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エンボス法とフォトブリーチング法を同時に行い、電気光学高分子に回折格子を有するチャネル導波路を形成する。フォトマスク部分とポリイミドで作製した回折格子マスタ部分から成る複合構造を有するマスク/マスタを作製する。高分子薄膜上にマスク/マスタを固定し, エンボスとフォトブリーチを行なった。レプリカ回折格子とチャネル導波路について考察する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-10-05
著者
-
杉原 興浩
東北大学多元物質科学研究所
-
江上 力
静岡大学工業短期大学部
-
岡本 尚道
静岡大学工学部
-
柴田 慎弥
東北大学多元物質科学研究所
-
藤村 久
静岡大学工学部
-
杉原 興浩
静岡大学工学部
-
江上 力
静岡大学 工学部
-
柴田 慎弥
静岡大学理工学研究科
-
車 彦龍
静岡大学NEDO養成技術者・地域共同研究センター
-
車 彦龍
静岡大学サテライトベンチャービジネスラボラトリー
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