電子線直接描画法を用いた光機能性高分子材料の加工
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概要
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非線形高分子に電子線照射・現像処理を行うことにより, 非線形性の消去, 高分子のエッチングが可能である。本研究では, 電子線直接描画を用いた簡便な非線形高分子光導波路デバイス作製法を提案し, サブミクロン周期χ^<(2)>回折格子を実現した。また, 非線形分岐チャネル導波路加工, および45°ミラー加工への適用が可能なことを明らかにした。
- 社団法人エレクトロニクス実装学会の論文
- 2001-03-01
著者
-
杉原 興浩
東北大学多元物質科学研究所
-
岡本 尚道
静岡大学工学部
-
杉原 興浩
静岡大学サテライト・ベンチャービジネス・ラボラトリー
-
車 彦龍
静岡大学サテライト・ベンチャービジネス・ラボラトリー
-
車 彦龍
静岡大学サテライトベンチャービジネスラボラトリー
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