散布図情報を用いたLSIウェーハ薄膜多層パターン比較検査アルゴリズム(画像認識, コンピュータビジョン)
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概要
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本論文では, LSIウェーハ薄膜多層パターンを対象に, 微細欠陥を高感度に検出する比較検査アルゴリズムを提案する.パターンの膜厚の違いにより生じる薄膜干渉に起因したチップごとの明るさの違いを許容することを目的に, 比較する2枚の画像データを散布図上に投票し, 投票データの広がりを抑えるため, 各画素の特徴を用いて散布図の分解を行い, 類似の特徴量をもつ画素ごとに散布図のデータを線形近似して階調変換によって明るさを合わせ込む.これにより, 従来に比べ, より小さい欠陥判定しきい値の設定が可能となり, 欠陥検出の高感度化を図ることができる.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-07-01
著者
-
酒井 薫
日立製作所生産技術研究所
-
前田 俊二
日立製作所生産技術研究所
-
酒井 薫
(株)日立製作所
-
前田 俊二
(株)日立製作所生産技術研究所
-
岡部 隆史
(株)日立製作所生産技術研究所
-
前田 俊二
(株)日立製作所 横浜研究所
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