原子ステップ表面を利用した酸化物ナノ結晶の作製(<小特集>ナノ結晶)
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概要
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The fabrication of oxide nanocrystals was investigated by using the advanced oxide heteroepitaxy technique based on the nanoscale surface engineering as well as the atomic layer control via laser molecular beam epitaxy. The atornic-stepped single-crystal oxide substrates developed by thermal annealing have been proved to be useful for the nanoscale growth control of films as well as for the nanoscale observation. The atomic-step decoration epitaxy resulting in nanowires or nanodots of oxide crystals was presented for Mn, Zn ferrite, Fe_3O_4 and NiO on the ultrasmooth sapphire substrates with the 0.2nm-high straight steps. The nanowires 0.5 nm high, about 20 nm wide show uniform configurations reflecting the straight step edges of the ultrasmooth substrates. Nanodots of Fe_3O_4 were also fabricated on the 2 nm-high bunching-stepped substrates.
- 日本結晶成長学会の論文
- 2001-10-12
著者
-
吉本 護
東京工業大学応用セラミックス研究所
-
伊佐 寛
東京工業大学応用セラミックス研究所
-
佐々木 敦
東京工業大学応用セラミックス研究所
-
秋葉 周作
東京工業大学
-
中島 健二
東京工業大学応用セラミックス研究所
-
山本 孝行
東京工業大学応用セラミックス研究所
-
佐藤 周平
東京工業大学応用セラミックス研究所
-
田代 純一
東京工業大学応用セラミックス研究所
-
Sato Shuhei
Materials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology
-
佐藤 周平
東京工業大学 情報理工学研究科 数理・計算科学専攻
-
秋葉 周作
東京工業大学応用セラミックス研究所
-
吉本 譲
東京工業大学応用セラミックス研究所
-
吉本 護
東京工業大学
-
佐々木 敦
東京工業大学
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