レーザーMBE法による機能性セラミックス薄膜の室温エピタキシャル成長
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概要
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- 2005-03-04
著者
-
原 和香奈
東京工業大学応用セラミックス研究所
-
吉本 護
東京工業大学応用セラミックス研究所
-
佐々木 敦
東京工業大学応用セラミックス研究所
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松田 晃史
東京工業大学
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舘田 典浩
東京工業大学
-
秋葉 周作
東京工業大学
-
秋葉 周作
東京工業大学応用セラミックス研究所
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吉本 譲
東京工業大学応用セラミックス研究所
-
吉本 護
東京工業大学
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原 和香奈
東京工業大学
-
佐々木 敦
東京工業大学
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