HMCZシリコン単結晶中の格子間酸素濃度のミクロ変動 : 融液成長VI
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概要
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- 日本結晶成長学会の論文
- 1992-06-25
著者
-
布施川 泉
信越半導体(株)白河工場
-
山岸 浩利
(株)スーパーシリコン研究所
-
飯野 栄一
信越半導体(株)半導体磯部研研究所
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山岸 浩利
信越半導体(株)
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布施川 泉
信越半導体(株)半導体磯部研究所
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布施川 泉
信越半導体
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