シリコン融液中酸素濃度変動のルツボ回転速度依存性
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概要
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Oxygen concentration in the silicon melt of a Czochralski system was measured by using an oxygen sensor. Oxygen fluctuation was measured and the fluctuation pattern changed depending on the crucible rotation rate.
- 日本結晶成長学会の論文
- 1997-07-01
著者
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木村 雅規
信越半導体
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木村 雅規
信越半導体(株)半導体磯部研研究所
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村岡 正三
信越半導体
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村岡 正三
信越半導体(株)半導体磯部研研究所
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飯野 栄一
信越半導体(株)半導体磯部研研究所
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窪田 巖
信越半導体(株)半導体磯部研研究所
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