臭化アルミニウムの気相酸素分解によるアルミナ微粒子の生成
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
The preparation of finely-divided alumina by vapor phase reaction between aluminum tribromide and oxygen was investigated at 950° to 1200°C, with an emphasis on the effects of the reaction conditions on the particle size distribution of the products. The results were as follows:1) The reaction products were amorphous at 950°C and were δ- or γ-Al2O3 at 1100° and 1200°C. Products were spherical and non-porous particles with the diameter of 350 to 3000Å. The particle size decreased with the increase in temperature and with the decrease of [AlBr3]. When [AlBr3]≅4.5%, the particle size increased with the increase of [O2]. When [AlBr3]≅1%, the particle size was minimum at about [O2]=32%. By controlling these three factors, ultrafine alumina powders with a controlled particle-size distribution were prepared by the vapor phase oxygenolysis of aluminum trihalides.2) In contrast with AlCl3-O2 system, alumina powders obtained from AlBr3-O2 system. The concentration of oxygen influenced Predominantly on the bromine content which was 7-16wt% at [O2]≥32% and was less than 2.5wt% at [O2]<8%. A heat treatment above 1100°C was required to remove bromine.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 1975-01-01
著者
関連論文
- イオン交換法による銀被覆炭酸カルシウム粒子の合成
- 炭酸カルシウムのニッケル化合物による被覆
- 炭酸カルシウムの結晶析出におけるNi^, Co^, Mn^, Fe^イオンの添加効果
- Ag_2S-ZnS系複合粒子の合成
- イオン交換反応法によるCuS被覆ZnS粒子の合成
- スプレーICP法によるLa(M)_2NiO_4超微粉体と配向性薄膜の合成
- スプレーICP法により調製したLa_Sr_xMnO_3配向薄膜
- ダイヤモンドの気相合成におけるRFプラズマ中への金属の添加効果
- 分子線エピタキシー(MBE)法[に]よるMoO_3薄膜の調製
- 1E12 反応性マグネトロンスパッタによる ZrN 薄膜の合成
- 反応性スパッタによる磁器釉上への TiN 膜の析出
- 反応性スパッタによる磁器釉上へのTiN膜の析出
- ソーダライト-ウルトラマリン系固溶体の合成
- スプレー法により合成した酸化スズ薄膜の構造と電気的性質に及ぼす添加物の効果
- Al(i-Bu)_3-NH_3系気相反応によるAlN微粉体の合成
- 非晶質窒化ケイ素粉体の結晶化挙動
- 気相反応法によるSiC-Si_3N_4系複合粉体の合成(2. 気相反応法)(新技術によるセラミックスの合成と評価(I))
- 炭酸ガスレーザーによるSiC超微粒子の合成
- 第6回秋季シンポジウム報告記
- 均一沈殿法による雲母のTiO_2コ-ティング
- 気相反応法による炭化モリブデン粉体の生成
- Ni-P-SiC複合めっきの製造におけるSiC粒子の粒径と分散性の影響
- 硫酸イオン存在下でのアルミニウム塩水溶液からの水酸化アルミニウムの初期析出挙動
- 硫酸イオン存在下でのアルミニウム塩水溶液からのアルミナ水和物の析出挙動と粒子の合体
- アルミナ水和物に対する硫酸イオンの吸着 (無機材料の合成を支える技術とその評価) -- (表面界面・インタ-カレ-ション)
- 均一沈殿法によるスピネル粉体の合成
- 気相法アルミナ微粉末の焼結特性
- 鉄, ニッケル, 銅およびニオブ線の放電爆発による微粉体の作製
- 尿素均一沈殿法によるCa(NO_3)_2水溶液からのCaCO_3の結晶析出 -析出物の形態および着色に対するNi^, Co^ イオンの添加効果-
- 均一沈殿法による単分散硫化亜鉛粒子の生成に対する反応条件の影響
- 持続可能な社会を実現するために
- 均一沈殿法により合成したチタン酸アルミニウムの焼結性
- 硝酸カルシウム水溶液からの炭酸カルシウムの結晶析出-2-生成相および結晶形態におよぼす金属イオンの効果
- アルミナ水和物被覆SiCウイスカーの合成 : 合成条件が被覆構造に及ぼす影響
- 硝酸カルシウム水溶液からの炭酸カルシウムの結晶析出-1-析出条件と結晶形態
- SiO(g)-CO系からのSiCホイスカーの成長に対する金属触媒の効果
- SiO(g)-CO系からのSiCホイスカーの合成
- 均一沈殿法による酸化物粉体の合成と焼結特性
- CVD 法によるルチル基板上への SnO_2 薄膜の析出
- ESRによるV_2O_5-燐酸ナトリウム系ガラス中のパジウム構造に関する研究
- V_2O_5-M_2OおよびV_2O_5-MPO_3系熔融物におけるバナジウムの酸化還元平衡に及ぼす酸塩基性の影響
- SiCウイスカー-ジルコニア複合系の焼結におけるCOの影響
- RF-プラズマ法によるSiC, Si_3N_4粉体の合成(2. 気相反応法)(新技術によるセラミックスの合成と評価(I))
- RF-プラズマ気相反応法によるSiC粉体の合成
- RF-プラズマ法によるSiO_2粉体からのSiC粉体の合成
- バイアス法によるパラジウム基板上へのダイヤモンド核形成
- プラズマCVDによるPd基板上への配向ダイヤモンドの析出
- CVD法による各種金属基板上へのSiCの析出
- 気相成長法による酸化スズ結晶の晶癖
- Zn蒸気の気相酸化によるZnO超微粉体の合成
- 気相法 TiO_2 微粉体の焼結
- 噴霧熱分解法による微粉体合成(第3報) : 粒子形状に及ぼす噴霧液滴の加熱速度および高沸点溶媒添加の効果
- TiO_2の相転移に対する添加物の作用機構
- TiO_2の相転移に対するSiO_2の抑制効果
- 火炎噴霧法における反応条件と生成物の性質-Znフェライト粉体
- 化学炎法Ag粉体を用いて作製した導電膜の特性
- 均一沈殿法による酸化スズ粒子の生成
- ニッケルーリンーセラミックス複合めっきの耐摩耗性
- 塩化アルミニウムの気相酸素分解によるアルミナ微粒子の生成と性質
- 四塩化珪素とアンモニアとの気相反応による窒化珪素微粒子の生成
- クリストバライトの還元窒化反応
- WC-PTFE系ガス拡散電極の構造と水素酸化特性
- YSZ被覆SiC粒子の合成と焼結性
- 噴霧熱分解法による微粉体合成,II 酸化鉄粉体
- 臭化アルミニウムの気相酸素分解によるアルミナ微粒子の生成
- 導線放電爆発法によるTiO_2粒子の製造(4.固相反応法)(新技術によるセラミックスの合成と評価(II))
- 気相反応法によるNiおよびCoフェライト微粉体の合成
- Nb-Sn-Si及びNb-Al-Si系におけるA-15相の欠陥構造と超電導転移温度
- TiCl_4-NH_3-H_2-N_2系気相反応による窒化チタン微粉体の合成
- 熔融燐酸塩中での遷移金属の酸化還元平衡と酸塩基性
- 気相反応法による炭化ケイ素超微粉体の合成へのプラズマジェットの利用
- 気相反応法による炭化チタン微粒体の合成
- ZrCl_4-NH_3-H_2-N_2 系気相反応による窒化ジルコニウム粉体の合成
- 配向性SnO_2薄膜の電気的性質
- グロー放電法による酸化スズ薄膜の合成
- クロム粉体の窒化速度及び Cr_2N-CrN 系の平衡
- 直細孔をもつジルコニアセラミックスの構造(セラミックスの微細構造)
- 高純度アルミナセラミックスのタングステン及びモリブデンメタライジング
- Nb3Sn粒子分散複合体の超電導特性 : Nb3Sn粒子径の効果
- 炭化ケイ素微粉体の焼結における粒度配合効果
- 気相反応法による TiN 粒子の生成過程の直接観察
- WC微粉体の焼結に関する研究
- 気相反応法による炭化タングステンおよび炭化モリブデン微粉体の焼結特性
- 四塩化珪素の気相酸素(酸化)分解による微粒子シリカの生成