Mg_xZn_<1-x>O-Based Schottky Photodiode for Highly Color-Selective Ultraviolet Light Detection
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- Japan Society of Applied Physicsの論文
- 2008-12-25
著者
-
OHTOMO Akira
Institute for Materials Research, Tohoku University
-
FUKUMURA Tomoteru
Institute for Materials Research, Tohoku University
-
KAWASAKI Masashi
Institute for Materials Research, Tohoku University
-
久保 百司
東北大学大学院工学研究科附属エネルギー安全科学国際研究センター
-
Fukumura Tomoteru
Institute For Materials Research Tohoku University
-
Ohtomo Akira
Institute For Materials Research Tohoku University
-
Ohtomo Akira
Department Of Industrial Chemistry University Of Tokyo
-
Kawasaki M
Institute For Materials Research Tohoku University
-
Kumagai M
Materials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology
-
Kawasaki M
Institute For Materials Research (imr) Tohoku University
-
Kawasaki Masashi
Institute For Materials Research (imr) Tohoku University
-
Ohtomo Akira
Department Of Applied Chemistry Tokyo Institute Of Technology
-
TSUKAZAKI Atsushi
Institute of Materials Research, Tohoku University
-
Kubo Momoji
Department Of Materials Chemistry Graduate School Of Engineering Tohoku University
-
Kawasaki Masashi
Department Of Applied Biological Science Tokyo Noko University
-
HIROSE Yasushi
Kanagawa Academy of Science and Technology (KAST)
-
Nakahara Ken
Interdisciplinary Devices R&d Center Rohm Co. Ltd.
-
Ohtomo Akira
Tokyo Inst. Technol. Tokyo Jpn
-
Kawasaki M
Joint Research Center For Atom Technology (jrcat) : Department Of Innovative And Engineered Material
-
NAKANO Masaki
Institute for Materials Research, Tohoku University
-
MAKINO Takayuki
WPI Advanced Institute for Materials Research, Tohoku University
-
UENO Kazunori
WPI Advanced Institute for Materials Research, Tohoku University
-
YUJI Hiroyuki
Advanced Compound Semiconductors R&D Center, ROHM Co., Ltd.
-
NISHIMOTO Yoshio
Advanced Compound Semiconductors R&D Center, ROHM Co., Ltd.
-
AKASAKA Shunsuke
Advanced Compound Semiconductors R&D Center, ROHM Co., Ltd.
-
TAKAMIZU Daiju
Advanced Compound Semiconductors R&D Center, ROHM Co., Ltd.
-
NAKAHARA Ken
Advanced Compound Semiconductors R&D Center, ROHM Co., Ltd.
-
TANABE Tetsuhiro
Advanced Compound Semiconductors R&D Center, ROHM Co., Ltd.
-
KAMISAWA Akira
Advanced Compound Semiconductors R&D Center, ROHM Co., Ltd.
-
Kubo Momoji
Tohoku Univ. Sendai Jpn
-
Tanabe Takaya
Advanced Compound Semiconductors R&d Center Rohm Co. Ltd.
-
Ueno Kazunori
Wpi Advanced Institute For Materials Research Tohoku University
-
Ueno Kazunori
Institute For Materials Research Tohoku University
-
Nakano Masaki
Institute For Materials Research Tohoku University
-
Kamisawa Akira
Advanced Compound Semiconductors R&d Center Rohm Co. Ltd.
-
Takamizu Daiju
Advanced Compound Semiconductors R&d Center Rohm Co. Ltd.
-
Hirose Yasushi
Kanagawa Academy Of Science And Technology
-
Nakahara Ken
Advanced Compound Semiconductors R&d Center Rohm Co. Ltd.
-
Makino T
Wpi Advanced Institute For Materials Research Tohoku University
-
Tsukazaki Atsushi
Institute For Materials Research (imr) Tohoku University
-
Koyama Michihisa
Department Of Applied Chemistry Graduate School Of Engineering Tohoku University
-
Akasaka Shunsuke
Interdisciplinary Devices R&d Center Rohm Co. Ltd.
-
Nishimoto Yoshio
Advanced Compound Semiconductors R&d Center Rohm Co. Ltd.
-
Tanabe Tetsuhiro
Advanced Compound Semiconductors R&d Center Rohm Co. Ltd.
-
Ohtomo Akira
Tohoku Univ. Sendai Jpn
-
Kawasaki Masashi
Institute For Chemical Research Kyoto University
-
Tsukazaki Atsushi
Institute For Materials Research Tohoku University
-
Makino Takayuki
Wpi Advanced Institute For Materials Research Tohoku University
-
Kawasaki Masashi
Quantum-phase Electronics Center (qpec) And Department Of Applied Physics University Of Tokyo
-
FUKUMURA Tomoteru
Institute for Materials Research
-
Yuji Hiroyuki
Advanced Compound Semiconductors R&D Center, ROHM Co., Ltd., 21 Mizosaki-cho, Saiin, Ukyo-ku, Kyoto 615-8585, Japan
-
Akasaka Shunsuke
Advanced Compound Semiconductors R&D Center, ROHM Co., Ltd., 21 Mizosaki-cho, Saiin, Ukyo-ku, Kyoto 615-8585, Japan
関連論文
- 三次元多孔質構造に基づく色素増感TiO_2電極の電子移動シミュレーション(プロセス科学と新プロセス技術)
- ナノスケルトン創製のための実験融合計算化学によるマルチスケールシミュレーション
- ナノスケルトン創製におけるマランゴニ対流の影響解析
- Theoretic Study of Electronic and Electrical Properties for Nano-Structural ZnO
- Crystal Structure and Valence Distribution of [(LaMnO_3)_m(SrMnO_3)_m]_n Artificial Superlattices(Condensed matter: structure and mechanical and thermal properties)
- Magneto-Optical Spectroscopy of Anatase TiO_2 Doped with Co
- 半導体材料の電気伝導度に関する計算化学的検討
- 量子化学計算とQSPR法とによるEu^付活蛍光体の発光ピーク波長予測(プロセス科学と新プロセス技術)
- 自動化超高速化量子分子動力学法によるシリコン表面酸窒化シミュレーション(プロセス科学と新プロセス技術)
- ルミネッセンス計算化学による共役系高分子中のキャリア移動の解析(プロセス科学と新プロセス技術)
- シリコン表面の化学反応性に関する量子化学的検討(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 発光材料の構造とキャリア移動特性に関する計算化学的解析(プロセス科学と新プロセス技術)
- 色素増感型太陽電池のためのマルチスケールシミュレータの開発(プロセス科学と新プロセス技術)
- その他の分野
- プラズマディスプレイ用電極保護膜の高性能化に向けた計算機シミュレーション(プロセス科学と新プロセス技術)
- 計算化学手法によるダイヤモンドライクカーボン(DLC)の摩擦特性・微細構造の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
- 量子分子動力学法によるダイヤモンドライクカーボン膜生成過程の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
- 新規計算化学手法を用いたDLCの摩擦特性解析(プロセス科学と新プロセス技術)
- ドーパント導入によるPDP用MgO保護膜の安定性の効果に関する計算科学的検討
- シリコン表面の水素終端処理プロセスに関する計算化学的検討
- シリコン表面の高速化量子分子動力学法による大規模電子状態計算
- ドーパント導入によるPDP用MgO保護膜の安定性の効果に関する計算科学的検討(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- シリコン表面の水素終端処理プロセスに関する計算化学的検討(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- シリコン表面の高速化量子分子動力学法による大規模電子状態計算(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- プラズマディスプレイ用MgO保護膜の劣化プロセスの解明と理論設計(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 自己阻害型p47^の活性化機構に関する分子シミュレーション
- 希土類蛍光体の理論設計のための新規計算手法の開発と青色蛍光体BaMgAl_O_:Eu^の電子状態計算への応用
- 各種担持貴金属触媒における貴金属安定性及び反応性に関する量子化学的検討
- シリコン表面への低エネルギーボロン注入プロセスに関する計算化学的検討(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 大規模量子化学計算による担持貴金属触媒における担体効果の解明
- 計算化学によるプラズマディスプレイ用電極保護膜材料の二次電子放出特性評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- 超高速化量子分子動力学法に基づく構造解析・分光シミュレータの開発とシリコン半導体への応用(プロセス科学と新プロセス技術)
- 実験との融合を指向した計算化学手法による蛍光体の構造解析(プロセス科学と新プロセス技術)
- 計算化学によるプラズマディスプレイ用MgO保護膜の電子放出特性の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- 分子動力学法によるMgOの力学的物性予測(プロセス科学と新プロセス技術)
- 希土類系材料に対する電子数拘束アルゴリズムの開発と量子分子動力学計算への応用
- 低湿度雰囲気における液晶表示装置向け高温ポリシリコン用ガラス表面への水分吸着量
- マルチスケールトンネル電流シミュレータの開発(プロセス科学と新プロセス技術)
- プラズマディスプレイ用MgO保護膜の構造破壊ダイナミクスと理論設計(プロセス科学と新プロセス技術)
- 三次元多孔質シミュレータの固体酸化物燃料電池燃料極微細構造最適化への応用と燃料極性能指数の提案
- 計算化学の応用展開
- マルチスケール配線寿命予測シミュレータの開発とCu配線への応用(プロセス科学と新プロセス技術)
- ペロブスカイト型BaTiO_3の誘電特性解析のための超高速化量子分子動力学法の開発(プロセス科学と新プロセス技術)
- 固体高分子形燃料電池触媒層に対するマルチスケール計算化学アプローチ
- 触媒表面ダイナミクス解析を目的とした超高速化量子分子動力学法の開発
- 複数成分を扱える自動車触媒の経時劣化特性シミュレータの開発と応用
- 不規則性多孔体微細構造最適化のための三次元多孔質シミュレータPOCO^2の開発と応用
- 産業革新のための実践的コンピュータ化学 : 触媒研究への応用
- 高速化量子分子動力学プログラム Colors の希土類への展開
- Tight-Binding Quantum Chemistry Study on Excitation Properties of Perylene with Acrylic Acid on Anatase (001) Surface
- SCF-Tight-Binding 量子分子動力学計算プログラム Colors の開発とマルチフィジックス現象ダイナミクスへの応用
- 膜プロセスシミュレーションのための新規プログラムの開発およびその応用
- コンピューターシミュレーションで見るナノスペースでの分子挙動
- コンピュータ化学による環境保全・汚染物質の除去技術
- ゼオライト外表面の特異的なポテンシャル場と分子の動き
- 無機膜の微細孔を利用した気体選択分離に関する分子論的研究
- 低湿度雰囲気における液晶表示装置向け高温ポリシリコン用ガラス表面への水分吸着量
- 41485 低湿度雰囲気における高温ポリシリコン用ガラス表面への吸着水分量の検討(化学物質汚染低減効果の評価, 環境工学II)
- In-Plane Orientation and Polarity of ZnO Epitaxial Films on As-Polished Sapphire (α-Al_2O_3) (0001) Substrates Grown by Metal Organic Chemical Vapor Deposition
- 大規模複雑系材料のための新規電気伝導度推算手法の開発と各種触媒材料への応用
- 電気伝導度推算シミュレータの各種半導体デバイス材料への応用およびWiedemann-Franz則による熱伝導度推算手法の開発
- 光励起反応ダイナミクスの解明を可能とする高速化量子分子動力学プログラムの開発
- 分子シミュレーション工学
- 鼻薬の理論
- ナノ構造における電気伝導度の評価方法の提案
- CMPプロセス解析のための新規プログラムの開発
- 電場下での電子状態ダイナミックスシミュレーションを可能とする高速化量子分子動力学法の開発
- 高速化量子分子動力学法を用いた超・亜臨界場における化学反応の解明
- 高速化量子分子動力学法のプラズマ反応ダイナミクス解析への応用
- 金属、合金への水素吸蔵に関するシミュレーションのためのモンテカルロ計算プログラムの開発
- 膜分離シミュレーション用プログラムの開発とゼオライト膜による気体分離への応用
- Ferromagnetism in Co-Doped TiO_2 Rutile Thin Films Grown by Laser Molecular Beam Epitaxy
- Structural and Optical Properties of ZnO Epitaxial Films Grown on Al_2O_3 (1120) Substrates by Metalorganic Chemical Vapor Deposition
- High Mobility Thin Film Transistors with Trasparent ZnO Channels
- Temperature-Dependent Soft X-ray Photoemission and Absorption Studies of Charge Disproportionation in La_Sr_xFeO_3(Condensed Matter: Electronic Structure, Electrical, Magnetic and Optical Properties)
- Epitaxial Synthesis of Sr_Ti_nO_ (n = 2-5) Ruddlesden-Popper Homologous Series by Pulsed-Laser Deposition
- 衝撃圧縮法により作製されたCrW合金の粒径依存性
- Magnetic Domain Structures Governed by Granular Morphology in La_Sr_MnO_3 Thin Films as Probed by Low-Temperature Magnetic Force Microscopy
- Quantitative Conductivity Mapping of SrTiO_3-LaAlO_3-LaTiO_3 Ternary Composition-Spread Thin Film by Scanning Microwave Microscope
- Observation of Compositional Fluctuation by Scanning Superconducting Quantum Interference Device (SQUID) Microscope in Superconducting La_Sr_CuO_4
- Temperature Dependence of Absorption Spectra in Anatase TiO_2 Epilayers
- Temperature Dependence of Absorption Spectra in Anatase TiO_2 Epilayers
- Mg_xZn_O Films with a Low Residual Donor Concentration (
- Mg_xZn_O-Based Schottky Photodiode for Highly Color-Selective Ultraviolet Light Detection
- Room Temperature Ferromagnetic Semiconductor Rutile Ti_Co_xO_ Epitaxial Thin Films Grown by Sputtering Method
- Plasma-assisted Molecular Beam Epitaxy of High Optical Quality MgZnO Films on Zn-polar ZnO Substrates
- High Electron Mobility Exceeding 10^4cm^2V^ s^ in Mg_xZn_O/ZnO Single Heterostructures Grown by Molecular Beam Epitaxy
- An Organic Light Emitting Device Employing Transparent Rutile TiO_2 as an Anode
- Analysis of Time-Resolved Donor-Acceptor Photoluminescence of N-Doped ZnO
- Photo-Irresponsive Thin-Film Transistor with Mg_xZn_O Channel
- Shifting Donor-Acceptor Photoluminescence in N-doped ZnO(Condensed matter: electronic structure and electrical, magnetic, and optical properties)
- Blue Light-Emitting Diode Based on ZnO
- Metallic LaTiO_3 / SrTiO_3 Superlattice Films on the SrTiO_3(100) Surface
- Magnetic Properties of Strain-Controlled SrRuO_3 Thin Films
- Magnetic and Transport Properties of Mn-Based Fractional-Layer Oxide Superlattices
- A Ferromagnetic Oxide Semiconductor as Spin Injection Electrode in Magnetic Tunnel Junction
- Heteroepitaxy of Hexagonal ZnS Thin Films Directly on Si(111)
- Atomistic Crystal Growth Process of Metal Oxide Electronics Materials : Theoretical Simulation Studies
- Controlled Carrier Generation at a Polarity-Discontinued Perovskite Heterointerface
- High-Throughput Screening of Ultraviolet-Visible Magnetooptical Properties of Spinel Ferrite (Zn, Co)Fe_2O_4 Solid Solution Epitaxial Film by a Composition-Spread Approach