Influence of Substrate Bias Voltage on the Properties of Cu Thin Films by Sputter Type Ion Beam Deposition
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概要
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- Japan Institute of Metalsの論文
- 2002-06-01
著者
-
一色 実
東北大多元研
-
ISHIKAWA Yukio
Department of Radiology, Asahikawa Medical College
-
一色 実
東北大工
-
ISSHIKI Minoru
Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, Tohoku University
-
Isshiki Minoru
Instite For Advanced Materials Processing Tohoku University
-
Lim Jae-won
Mineral Resources Research Division Korea Institute Of Geoscience & Mineral Resources
-
Lim J‐w
Tohoku Univ. Sendai Jpn
-
Lim Jae-won
Institute Of Multidisciplinary Research For Advanced Materials Tohoku University
-
MIYAKE Kiyoshi
Graduate School of Science and Engineering, Saitama University
-
YAMASHITA Mutsuo
Seinan Industries Co. Ltd.
-
一色 実
東北大選研
-
Miyake Kiyoshi
Graduate School Of Science And Engineering Saitama University
-
Ishikawa Yukio
Department Of Pathology School Of Medicine Toho University
-
Ishikawa Y
Department Of Substrate Engineering Semiconductor Division Sumitomo Electric Industries Ltd.
-
Ishikawa Yukio
Department Of Forestry And Landscape Architecture Hokkaido College Senshu University
-
Lim Jae-won
Mineral Resources Res. Div. Korea Inst. Of Geoscience And Mineral Resources
-
Ishikawa Yukio
Department Of Clinical Laboratory Sado General Hospital
-
Ishikawa Yukio
Department of Applied Chemistry, Faculty of Engineering, Osaka University
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