Improvement of Ta Barrier Film Properties in Cu Interconnection by Using a Non-mass Separated Ion Beam Deposition Method

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概要

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• Japan Institute of Metalsの論文
• 2002-03-01

著者

• 一色 実

  東北大多元研

• ISHIKAWA Yukio

  Department of Radiology, Asahikawa Medical College

• ISHIKAWA Yukiko

  Department of Medicine, Institute of Clinical Endocrinology, Tokyo Women's Medical University

• 一色 実

  東北大工

• ISSHIKI Minoru

  Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, Tohoku University

• Isshiki Minoru

  Instite For Advanced Materials Processing Tohoku University

• Lim Jae-won

  Mineral Resources Research Division Korea Institute Of Geoscience & Mineral Resources

• Lim J‐w

  Tohoku Univ. Sendai Jpn

• Lim Jae-won

  Institute Of Multidisciplinary Research For Advanced Materials Tohoku University

• MIYAKE Kiyoshi

  Graduate School of Science and Engineering, Saitama University

• YAMASHITA Mutsuo

  Seinan Industries Co. Ltd.

• 一色 実

  東北大選研

• Miyake Kiyoshi

  Graduate School Of Science And Engineering Saitama University

• Ishikawa Yukio

  Department Of Pathology School Of Medicine Toho University

• Ishikawa Y

  Department Of Substrate Engineering Semiconductor Division Sumitomo Electric Industries Ltd.

• Ishikawa Yukio

  Department Of Forestry And Landscape Architecture Hokkaido College Senshu University

• Lim Jae-won

  Mineral Resources Res. Div. Korea Inst. Of Geoscience And Mineral Resources

• Ishikawa Yukio

  Department Of Clinical Laboratory Sado General Hospital

• ISHIKAWA Yukiko

  Department of Medicine, Institute of Clinical Endocrinology, Tokyo Women's Medical University

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