超高速LSI用低抵抗率Cu配線材料の現状と将来 : 高純度めっき技術によるアプローチを中心にして
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概要
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- 2011-11-01
著者
-
一色 実
東北大多元研
-
大貫 仁
茨城大学工学部マテリアル工学科
-
一色 実
東北大工
-
一色 実
東北大学 多元物質科学研究所
-
一色 実
東北大選研
-
大貫 仁
茨城大学
-
玉橋 邦裕
茨城大学
-
Isshiki Minoru
Inst. Of Multidisciplinary Res. For Advanced Materials Tohoku Univ.
-
一色 実
東北大学
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