大貫 仁 | 茨城大学工学部マテリアル工学科
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概要
関連著者
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大貫 仁
茨城大学工学部マテリアル工学科
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大貫 仁
茨城大学工学部
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田代 優
茨城大学工学部マテリアル工学科
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伊藤 雅彦
茨城大学大学院理工学研究科
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門田 裕行
日立協和エンジニアリング株式会社デバイスシステムセンタ
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一色 実
東北大多元研
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一色 実
東北大工
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篠嶋 妥
茨城大学工学部物質工学科
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大貫 仁
茨城大学大学院理工学研究科
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門田 裕行
茨城大学大学院理工学研究科
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菅野 龍一
日立協和エンジニアリング株式会社デバイスシステムセンター
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一色 実
東北大選研
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Isshiki Minoru
Inst. Of Multidisciplinary Res. For Advanced Materials Tohoku Univ.
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打越 雅仁
東北大多元研
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篠嶋 妥
茨城大学
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篠嶋 妥
茨城大工
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三村 耕司
東北大学多元物質科学研究所
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一色 実
東北大学多元物質科学研究所
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一色 実
東北大学 多元物質科学研究所
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永井 傑朗
茨城大学大学院理工学研究科
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赤羽 智明
茨城大学大学院理工学研究科
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影山 順平
茨城大院
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市村 稔
茨城大院
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大貫 仁
茨城大院
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打越 雅仁
東北大学多元物質科学研究所
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篠嶋 妥
茨城大
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篠嶋 妥
茨城大学工学部マテリアル工学科
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大貫 仁
茨城大学
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Khoo Khyoupin
茨城大学工学部マテリアル工学科
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伊藤 雅彦
茨城大学工学部マテリアル工学科
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玉橋 邦裕
茨城大学
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一色 実
東北大学
著作論文
- Cu超微細配線構造の安定性に及ぼす結晶方位の影響
- アルミニウム薄膜における粒成長のフェーズフィールドシミュレーション
- 三次元実装用貫通電極の高速めっき技術
- 超微細Cu配線の微細構造と抵抗率に及ぼす硫酸銅純度の影響
- 超高速LSI用低抵抗率Cu配線材料の研究 (特集 材料プロセスにおける分離操作と高純度精製)
- Cu配線の現状と将来 (特集 これだけは知っておきたい最新の配線・実装材料技術)
- 高速流めっき法による短時間Cu貫通電極形成および電極の微細組織
- 高純度めっき材料を用いた低抵抗率Cu配線形成プロセスの8インチウエハによる検証
- 超高速LSI用低抵抗率Cu配線材料の現状と将来 : 高純度めっき技術によるアプローチを中心にして
- 先端半導体デバイス向け高純度銅