KCl基板上に作製されたバナジルフタロシアニン薄膜の熱処理による成長機構と分子配向及び非線形光学特性の評価
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概要
著者
-
落合 鎮康
愛知工業大学
-
大橋 朝夫
愛知工業大学
-
小嶋 憲三
愛知工業大学
-
中野 寛之
愛知工業大学 工学部 電気学科
-
水谷 照吉
名古屋大学大学院工学研究科電気工学専攻
-
中野 寛之
愛知工業大学
-
中野 寛之
愛知工業大学工学部電気学科
-
内田 悦行
愛知工業大学工学部電気学科
-
内田 悦行
愛知工業大学
-
澤 五郎
愛知工業大学電気学科
-
澤 五郎
愛知工業大学電気工学専攻
-
澤 五郎
愛知工業大学電気工学科
-
伊藤 泰行
愛知工業大学電気工学科
-
大橋 朝夫
愛知工業大学工学部電気工学科
-
澤 五郎
愛知工業大学
-
水谷 照吉
名古屋大学
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