分子線エピタキシー法でガラス基板上に作製されたバナジルフタロシアニン薄膜の相構造変化に伴う熱刺激電流
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概要
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- 1998-06-20
著者
-
前田 昭徳
愛知工業大学
-
落合 鎮康
愛知工業大学
-
大橋 朝夫
愛知工業大学
-
小嶋 憲三
愛知工業大学
-
水谷 照吉
名古屋大学大学院工学研究科電気工学専攻
-
吉川 俊夫
愛知工業大学総合技術研究所
-
内田 悦行
愛知工業大学
-
古橋 秀夫
愛知工業大学 電気学科 情報通信工学専攻
-
古橋 秀夫
愛知工大
-
前田 昭徳
愛知工業大学 工学部 電気工学科
-
家田 正之
愛知工業大学電気工学科
-
川上 誠
愛知工業大学工学部
-
朱 留存
中国揚州大学工学院
-
水谷 照吉
名古屋大学
-
家田 正之
愛知工業大学
-
吉川 俊夫
愛知工業大学 総合技術研究所
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