家田 正之 | 愛知工業大学
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概要
関連著者
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家田 正之
愛知工業大学電気工学科
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家田 正之
愛知工業大学
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前田 昭徳
愛知工業大学
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落合 鎮康
愛知工業大学
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大橋 朝夫
愛知工業大学
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小嶋 憲三
愛知工業大学
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内田 悦行
愛知工業大学
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古橋 秀夫
愛知工業大学 電気学科 情報通信工学専攻
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古橋 秀夫
愛知工大
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前田 昭徳
愛知工業大学 工学部 電気工学科
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吉川 俊夫
愛知工業大学総合技術研究所
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吉川 俊夫
愛知工業大学 総合技術研究所
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内田 悦行
愛知工業大学工学部電気学科
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古橋 秀夫
愛知工業大学情報通信工学専攻
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落合 鎮康
愛知工業大学工学部
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水谷 照吉
名古屋大学大学院工学研究科電気工学専攻
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水谷 照吉
名古屋大学
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奥村 典弘
愛知工業大学大学院
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奥村 典弘
愛知工業大学電気工学科
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水谷 照吉
愛知工業大学
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大橋 朝夫
愛知工業大学工学部電気工学科
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中野 寛之
愛知工業大学 工学部 電気学科
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中野 寛之
愛知工業大学
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朱 留存
中国揚州大学工学院
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中野 寛之
愛知工業大学工学部電気学科
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川島 早由里
愛知工業大学
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加藤 徹
愛知工業大学工学部
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福井 昭圭
愛知工業大学工学研究科
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武田 仁志
愛知工業大学
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朱 留存
愛知工業大学
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長田 佳宣
愛知工業大学工学部
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川上 誠
愛知工業大学工学部
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高井 吉明
名古屋大学大学院 工学研究科 エネルギー理工学専攻
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高井 吉明
名古屋大学工学部
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水谷 照吉
名古屋大学工学部
著作論文
- 分子線エピタキシー法でガラス基板上に作製されたバナジルフタロシアニン薄膜の相構造変化に伴う熱刺激電流
- 分子線エピタキシー法によりKBr基板上作製されたバナジルフタロシアニン薄膜
- MBE法により各種基板上に作製されたVOPc薄膜の形態評価
- MBE法によりKBr基板上に作製されたバナジルフタロシアニン単結晶とそのSHGとTHG
- バナジルフタロシアニン蒸着薄膜の作製と構造評価
- テトラカルボキシバナジルフタロシアニンLB膜の作製と電気特性
- MBE法によりKBr上に作製されたバナジルフタロシアニン単結晶とそのSHGとTHG
- エピキタシー成長したバナジルフタロシアニン膜の非線形光学特性
- KBr基板上に作製されたVOPc単結晶の成長機構
- MBE法によりKBr上に作製されたバナジルフタロシアニン単結晶とそのSHG
- 分子線エピタキシー法でKBr, 雲母基板上に作製したバナジルフタロシアニン単結晶の評価
- 分子線エピタキシー法によるバナジルフタロシアニン単結晶膜成長の基板温度依存性
- 分子線エピタキシー法によるバナジルフタロシアニン単結晶膜成長の基板温度依存性
- ポリパラキシリレン高分子薄膜の気相成長
- 名誉員 篠原卯吉先生を偲んで