イオン誘起二次電子分析による負イオン注入時のレジスト膜の帯電測定
スポンサーリンク
概要
著者
-
酒井 滋樹
日新イオン機器株式会社
-
後藤 康仁
京都大学工学研究科
-
辻 博司
京都大学工学研究科
-
石川 順三
京都大学工学研究科
-
豊田 啓孝
京都大学工学部電子工学教室
-
酒井 滋樹
日新電機(株)研究開発本部
-
南雲 正二
京都大学工学部電子工学教室
-
豊田 啓孝
京都大学大学院工学研究科電子物性工学教室
関連論文
- シリコン電界放出電子源から放出される電子のエネルギー分析
- イオン注入装置の帯電緩和素子への応用を目指したシリコンフィールドエミッタアレイの開発(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 金属負イオン注入による二酸化チタンルチルの光触媒効率の改善
- 三フッ化メタンプラズマ処理したシリコン電界放出電子源の表面状態と電子放出特性(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 低エネルギー集束イオンビーム直接蒸着装置の開発
- シリコン微小電子源のイオンビーム空間電荷中和への応用(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 半球形阻止電界型エネルギー分析器を用いたシリコン電界放出電子源のエネルギー分析
- 水素ガス導入下におけるSi:C電界放出電子源の経時変化の測定
- シリコンへのジボランイオン注入における水素分子イオンのボロン分布への影響
- ジボランイオン注入によってシリコンに添加されたボロンの活性化
- 低エネルギー小型マイクロ波イオン源を用いたイオソビームアシスト蒸着装置の開発
- 銀負イオン注入材料に対する血管内皮細胞の挙動に関する研究-細胞誘導と配列-
- 高周波プラズマスパッタ型負重イオン源における気体材料の負イオン生成
- 負イオン注入における絶縁した電極表面の帯電電位のイオン電流密度依存性
- 低エネルギー引き出し小型マイクロ波イオン源の開発
- 重イオン源の進歩と応用
- 極浅接合形成用イオン注入装置の開発
- 微細周期構造にイオン注入したときの素子帯電のシミュレーション
- イオン誘起二次電子による負イオン注入時の絶縁物基板の帯電測定
- 絶縁性基板への負イオン注入によるチャージアップの軽減
- 負イオン注入における基板帯電モデルとその評価
- サマリー・アブストラクト
- イオン誘起二次電子分析による負イオン注入時のレジスト膜の帯電測定
- マイクロバキューム・チューブ
- 負イオン源
- 高周波プラズマスパッタ型負重イオン源におけるSF_6からのフッ素負イオン引き出し
- 低エネルギーイオンビーム蒸着による薄膜作製技術
- 負イオン注入における絶縁物からの放出二次電子の測定