吉年 慶一 | 三洋電機(株) マイクロエレクトロニクス研究所
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概要
関連著者
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吉年 慶一
三洋電機(株) マイクロエレクトロニクス研究所
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吉年 慶一
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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茨木 晃
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三洋電機(株) マイクロエレクトロニクス研究所
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三洋電機株式会社アドバンストデバイス研究所
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渡辺 裕之
三洋電機株式会社 マイクロエレクトロニクス研究所
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三洋電機(株)
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井上 恭典
三洋電機(株)
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井上 恭典
三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
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水原 秀樹
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
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三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
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三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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三洋電機株式会社 研究開発本部 アドバンストデバイス研究所
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三洋電機株式会社技術開発本部マテリアル・デバイス技術開発センター
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三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
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三洋電機(株)
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三洋電機(株)半導体研究所光エレクトロニクス研究部半導体材料研究室
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松原 直輝
三洋電機株式会社 マイクロエレクトロニクス研究所
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植田 慶一
三洋電機株式会社 マイクロエレクトロニクス研究所
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辻村 和俊
三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
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山口 隆夫
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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後藤 壮謙
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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井手 大輔
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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緒方 敬士
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著作論文
- イオン注入法による化学増幅型レジストのドライエッチング耐性の向上 : 化学増幅型レジストの表面改質の検討
- イオン注入有機SOG膜を用いた低誘電率層間絶縁膜形成技術
- イオン注入SOG膜のCMPプロセスへの適用
- 可飽和吸収層を有する低雑音・高出力半導体レーザ
- 特集に寄せて ディジタルネットワーク社会を拓く電子デバイス (ディジタル情報家電特集(2))
- 新ミレニアムに半導体レーザーを考える
- 高温フィールド酸化によるRecessed LOCOSの特性改善
- 高密度光ディスク用630nm帯赤色半導体レーザ
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- 60℃保証を実現した635nm赤色半導体レ-ザ--DVD不可欠な短波長半導体レ-ザ (DVD/次世代CD実用化設計と最新技術) -- (DVDとデバイス技術)
- 2波長2ビームレーザを用いた光空間伝送システムの試作