水原 秀樹 | 三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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概要
関連著者
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水原 秀樹
三洋電機(株)
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水原 秀樹
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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渡辺 裕之
三洋電機株式会社 マイクロエレクトロニクス研究所
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井上 恭典
三洋電機(株)
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三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
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実沢 佳居
三洋電機株式会社 マイクロエレクトロニクス研究所
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谷本 伸一
三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
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三洋電機
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山下 幸司
三洋電機(株)
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三洋電機(株)セミコンダクターカンパニー Mos-lsi事業部
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平瀬 征基
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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今井 憲次
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今井 憲次
三洋電機(株)超LSI技術開発ブロジェクト
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西村 英孝
三洋電機(株)セミコンダクターカンパニー MOS-LSI事業部
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竹川 一之
三洋電機(株)セミコンダクターカンパニー MOS-LSI事業部
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坂東 淳史
三洋電機(株)セミコンダクターカンパニー MOS-LSI事業部
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辻村 和俊
三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
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平獺 征基
三洋電機(株)マイクロエレクトロニクス研究所
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平瀬 征基
三洋電機
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今井 憲次
三洋電機(株)セミコンダクターカンパニー Mos-lsi事業部
著作論文
- イオン注入低誘電率有機SOG膜を用いた層間絶縁膜形成技術
- 注入改質SOGを用いた高温スパッタAl-Plugプロセス
- ダイレクトオンメタル構造のイオン注入有機SOG層間絶縁膜形成技術
- イオン注入有機SOG膜を用いた低誘電率層間絶縁膜形成技術
- イオン注入SOG膜のCMPプロセスへの適用
- イオン注入法を用いた有機SOG膜の改質
- イオン注入有機SOG膜を用いた低誘電率層間絶縁膜形成技術 (半導体技術特集)