花房 寛 | 三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
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概要
関連著者
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花房 寛
三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
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花房 寛
三洋電機株式会社
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三洋電機株式会社
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吉年 慶一
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三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所
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三洋電機株式会社 マイクロエレクトロニクス研究所
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柴田 清司
三洋電機(株)
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花房 寛
三洋電機(株)
著作論文
- イオン注入法による化学増幅型レジストのドライエッチング耐性の向上 : 化学増幅型レジストの表面改質の検討
- イオン注入有機SOG膜を用いた低誘電率層間絶縁膜形成技術
- イオン注入SOG膜のCMPプロセスへの適用
- イオン注入を用いたアルミドライエッチングにおける対レジスト選択比の向上