豆野 和延 | 三洋電機株式会社マイクロエレクトロニクス研究所

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著作論文

• イオン注入を用いたアルミドライエッチングにおける対レジスト選択比の向上
• イオン注入法を用いたレジスト改質 : フォトレジストのドライエッチング耐性の向上

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