永瀬 雅夫 | NTT LSI研究所
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概要
関連著者
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永瀬 雅夫
NTT LSI研究所
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村瀬 克実
NTT物性科学基礎研究所
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永瀬 雅夫
Ntt物性科学基礎研究所
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村瀬 克実
NTT LSI研究所
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永瀬 雅夫
Ntt 物性科学基礎研
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生津 英夫
日本電信電話株式会社 NTT物性科学基礎研究所
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栗原 健二
NTTアドバンステクノロジ株式会社
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生津 英夫
NTT LSI研究所
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栗原 健二
NTT LSI研究所
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生津 英夫
Ntt 物性科学基礎研
著作論文
- 放射光照射による高融点金属酸化物の改質
- Siナノデバイスにおける構造サイズ揺らぎの定量評価
- SIMOX基板におけるSi/SiO_2界面のモホロジー
- ECRプラズマ酸化によるナノパタン反転法とSi量子細線加工
- ECRプラズマ酸化によるナノパタン反転法とSi量子細線加工