生津 英夫 | NTT LSI研究所
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
生津 英夫
NTT LSI研究所
-
生津 英夫
日本電信電話株式会社 NTT物性科学基礎研究所
-
生津 英夫
Ntt 物性科学基礎研
-
村瀬 克実
NTT物性科学基礎研究所
-
永瀬 雅夫
Ntt物性科学基礎研究所
-
栗原 健二
NTTアドバンステクノロジ株式会社
-
村瀬 克実
NTT LSI研究所
-
永瀬 雅夫
NTT LSI研究所
-
栗原 健二
NTT LSI研究所
-
永瀬 雅夫
Ntt 物性科学基礎研
-
栗原 健二
Ntt Lsi研
-
高橋 庸夫
NTT LSI研究所
-
岩立 和己
Ntt Lsi研究所
-
町田 克之
Nttシステムエレクトロニクス研究所
-
石山 俊彦
Ntt Lsi研究所
-
町田 克之
NTT LSI研究所
-
下山 展弘
NTT LSI研究所
-
峯岸 一茂
NTTエレクトロニクステクノロジー
-
牧野 孝裕
NTT LSI研究所
-
高橋 庸夫
北海道大学情報科学研究科
-
高橋 庸夫
Ntt基礎研
著作論文
- 層間絶縁膜がMOSFETの信頼性に与える影響 : ホットキャリア耐性と層間絶縁膜との関係
- Siナノデバイスにおける構造サイズ揺らぎの定量評価
- ECRプラズマ酸化によるナノパタン反転法とSi量子細線加工
- ECRプラズマ酸化によるナノパタン反転法とSi量子細線加工
- 微細加工用多層レジスト技術の現状と将来