町田 克之 | NTT LSI研究所

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  Nttシステムエレクトロニクス研究所

• 今井 和雄

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• 荒井 英輔

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• 小舘 淳一

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• 佐藤 芳之

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• 鴨志田 和良

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• 佐久間 一人

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• 生津 英夫

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• 高橋 庸夫

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• 細矢 徹夫

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• 田中 真紀子

  NTTアドバンステクノロジ(株)

• 籔本 周邦

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• 下山 展弘

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• 生津 英夫

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• 峯岸 一茂

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• 高橋 庸夫

  Ntt基礎研

• 生津 英夫

  Ntt 物性科学基礎研

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著作論文

• ECR O_2プラズマを用いたシリコンコンタクト表面清浄化の検討
• ポリサイドゲート電極でのECR窒素プラズマによる拡散バリヤ層SiNの形成技術
• SIMOX基板の重金属汚染分析方法の検討
• 層間絶縁膜がMOSFETの信頼性に与える影響 : ホットキャリア耐性と層間絶縁膜との関係
• バイアスECR法 (サブミクロン時代の平坦化技術(技術ノ-ト))

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