赤沢 方省 | NTT LSI研究所 加工技術研究部

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概要

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• 同名の論文著者
• NTT LSI研究所 加工技術研究部の論文著者

関連著者

• 内海 裕一

  Ntt Lsi研究所 加工技術研究部

• 赤沢 方省

  NTT LSI研究所 加工技術研究部

• 内海 裕一

  兵庫県立大学高度産業科学技術研究所

• 内海 裕一

  兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所

• 内海 裕一

  NTT基礎技術総合研究所

• 永瀬 雅夫

  Nttlsi研究所

• 永瀬 雅夫

  NTT LSI研究所

• 高橋 淳一

  NTT LSI研究所

• 宇理須 恒雄

  NTT LSI研究所

• 宇理須 恒雄

  総合研究大学院大学

著作論文

• 放射光励起Siエピタキシャル成長 (放射光応用技術)
• ジシランによる放射光励起Siエピタキシャル成長
• 放射光励起Siエピタキシャル成長
• ジシランを用いた放射光励起ALEとCVD (放射光応用技術)
• 放射光照射による高融点金属酸化物の改質
• 5a-PS-5 シンクロトロン放射光照射によるSiO_2、Si_3N_4膜の脱離

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