古川 勇二 | 職業能力開発総合大学校
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概要
関連著者
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古川 勇二
職業能力開発総合大学校
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古川 勇二
東京都立大学
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諸貫 信行
首都大
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古川 勇二
東京農工大学
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諸貫 信行
東京都立大学大学院
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角田 陽
首都大
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角田 陽
東京都立大学大学院
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角田 陽
東京高専
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内山 賢治
日本大学
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内山 賢治
東京都立大学大学院 工学研究科
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金子 新
首都大
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金子 新
東京都立大学大学院
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青木 立
東京都立産業技術高等専門学校ものづくり工学科
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青木 立
東京都立工業高等専門学校
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楊 明
首都大学東京大学院工学研究科
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楊 明
東京都立大学工学部
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楊 明
神戸大学 工学部 応用化学科
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楊 明
東京都立大学大学院工学研究科
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古川 勇二
都立大学大学院
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諸貫 信行
都立大
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酒井 保男
酒井技術士事務所
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柳下 福蔵
沼津工業高等専門学校
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内山 賢治
都立大
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柳下 福蔵
国立沼津工業高等専門学校
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平井 聖児
東京都立工業高等専門学校
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藤山 孝太郎
東京都立大学大学院
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角田 陽
都立大
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佐々木 智憲
東京都立産業技術研究センター
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土井 祐輔
東京都立大学大学院
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橋本 克美
東京都立大学大学院
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菊地 吉史
東京都立大学
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川上 和也
東京都立大学
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北岡 真也
東京都立大学
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菊地 吉史
東京都立大学大学院
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佐々木 智憲
東京都産業技術研究セ
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丸山 瑛一
政策研究大学院大学
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堤 正臣
東京農工大学
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丹羽 冨士雄
政策研究大学院大
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中川 威雄
理化学研究所
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平井 聖児
都立高専
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中田 孝
東京工業大学
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丸山 瑛一
理化学研究所フロンティア研究システム
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原 陽一郎
東レ経営研
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黒田 明生
東レ経営研
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高橋 勝緒
理研
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古川 勇二
東京農工大学工学府機械システム工学専攻
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平澤 冷
ナレッジフロント
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堤 正臣
東京農工大学大学院共生科学技術研究院
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堤 正臣
農工大
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沢田 潔
ファナック(株)
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堤 正臣
東京農工大学大学院
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和田 龍児
摂南大学
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牧野 常造
(株)牧野フライス
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原陽 一郎
東レ経営研
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森 剛一郎
東京都立大学
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中川 威雄
理化学研
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Furukawa Yuji
Faculty Of Technology Tokyo Metropolitan University
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Furukawa Yuji
Faculty Of Eng. Tokyo Metropolitan University
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高橋 勝緒
理化学研
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平澤 冷
政策研究大学院大
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猪俣 吉三
科学技術振興事業団
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谷村 正満
コーニング・アジア
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KAKUTA Akira
Graduate School of Mechanical Engineering, Tokyo Metropolitan University
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MORONUKI Nobuyuki
Graduate School of Mechanical Engineering, Tokyo Metropolitan University
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松田 裕晴
東京都立大学大学院
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金山 孝司
東京都立大学大学院
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横山 裕
東京都立大学
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幸村 日呂喜
東京都立大学大学院
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宮越 博史
東京都立大学大学院
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中野 寧
東京都立大学
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丸山 直樹
東京都立大学大学院
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加藤 丈晴
都立大
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三宮 直也
東京都立大学
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樋口 勝
東京都立大学工学部
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原田 茂
東京都立大学
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堤 正臣
東京農工大学大学院 生物システム応用科学研究科
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沢田 潔
ファナック
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堤 正臣
東京農工大学大学院生物システム応用科学研究所
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藤山 孝太郎
東京都立大学大学院:(現)ヤマハ(株)
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Moronuki Nobuyuki
Graduate School Of Mechanical Engineering Tokyo Metropolitan University
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Moronuki Nobuyuki
Graduate School Of Engineering Tokyo Metropolitan University
著作論文
- エピタキシャル成長における3次元島形成を利用したナノテクスチャ創成に関する研究
- マザーマシン : 過去から未来へ(創立100周年記念 これからのつくる技術)
- 分子線エピタキシによる面創成に関する研究(第3報) : Si-Siホモエピタキシャル成長機構における結晶異方性
- 分子線エピタキシによる面創成に関する研究(第2報) : 基板面方位とSi-Siホモエピタキシャル成長機構の関係
- 分子線エピタキシによる面創成に関する研究(第1報) : 付着分子エネルギーおよび付着分子密度がSi-Siホモエピタキシャル成長機構に及ぼす影響
- Si-MBEによるナノテクスチャ面の創成 : Si(100)基板におけるメサ上での3次元島の配列
- 2C18 研究支援体制のあり方に関する実態調査と考察
- 人材育成(4.精密工学の未来,創立75周年記念)
- Surface Properties of SiC Layer Grown by Molecular Beam Epitaxy (MBE) with Helicon Sputtering Molecular Beam Source(Advanced Manufacturing Technology)
- 規則形状面へのMBEによるナノテクスチャ面の創成:直線を配置した(111)シリコン面におけるテクスチャ
- 低エネルギーイオン支援によるスパッタ薄膜の高性能化
- 規則形状面へのMBEによるナノテクスチャー面の創成 : 円形穴を配置した(111)シリコン面におけるテクスチャー
- 分子線エピタキシによる(100),(110)単結晶Si面の平滑化過程
- 分子線エピタキシによるSiC平滑面の創成(第5報) : 分子線入射量が表面性状に及ぼす影響
- ライフサイクルデザインの提言への経緯(ライフサイクルデザインの提言)
- 工作機械の制御
- 金属膜付シリコンマイクロプローブの機械特性
- マイクロプローブの接触抵抗
- 微小はり群を用いた多機能共振型センサ
- 分子線エピタキシによる単結晶Si平滑化過程
- 分子線エピタキシによるSiC平滑面の創成(第4報) : 基板のもつ熱エネルギが表面性状に及ぼす影響
- 分子線エビタキシによる超精密加工(第10報)-(100)SiへのSi成長における基板温度の影響-
- 分子線エビタキシによる超精密加工(第9報)-(100)および(110)Siにおける平滑化過程の相違-
- 分子線エピタキシによるSiC平滑面の創成(第3報) -(111)Si基板へのSiC創成過程の観察-
- 微小はり群による高機能センサの設計と試作
- 学会新世紀
- 画像処理による微小物体の運動計測 第2報 フィルタ処理が輪郭線抽出精度に及ぼす影響
- 微小しゅう動機構に作用する表面吸着力
- 微小物体のすべり摩擦特性
- 分子線エピタキシによる超精密加工(第8報) -(100)および(110)Si基板の平面創成過程-
- 分子線エピタキシによるSiC平滑面の創成(第2報) -C_2H_2分圧が炭化層の表面性状に及ぼす影響-
- ヘリコンスパッタ分子線源を用いたMBEによる単結晶SiC平滑面の創成に関する研究(第1報) -炭素源にC_2H_2を用いた場合-
- 電子部品・基板接合部の検査法に関する研究 -超音波による観察-
- 振動を用いた微小直線運動機構の位置決め制御
- 真空環境下における微小物体の摩擦力特性
- 分子線エピタキシによる超精密加工(第7報) -創成面の形状解析-
- 異方性エッチング液の選択指針とその応用法
- 画像処理による微小物体の運動計測 第1報 輪郭抽出におけるノイズフィルタサイズの自動選択
- 新春特別座談会 工作機械産業の将来展望--グロ-バル経済下でわが国の工作機械産業はどう展開を図るべきか
- 分子線エピタキシによる超精密加工(第6報)-基板面方位が表面性状に及ぼす影響-
- 研削過程のシミュレーションに関する研究(第4報) : シミュレーションの適用例
- 高速・高精度制御実現のための制御アルゴリズムに関する研究(第3報) : 変数変調デルタオペレーションの最適制御系への適用
- シリコン製微小直線運動機構の試作
- ポテンシャル場を考慮した物体の定常停止位置の予測 -振動部品整列機設計への応用-
- 分子線エピタキシによる超精密加工(第5報) -平面創成過程の観察-
- 分子線エピタキシによるSiC平滑面の創成(第1報) -Si基板上へのSiC成長-
- シリコン製微小運動機構の運動特性
- リアルタイム制御システムの構成 -変数変調デルタオペレーションの提案-
- 高速・高精度制御実現のための制御アルゴリズムに関する研究(第2報) : 変数変調デルタオペレーションの提案
- 研削過程のシミュレーションに関する研究(第3報) : 砥石の切れ刃分布が研削仕上げ面粗さおよび研削抵抗に及ぼす影響
- デルタオペレータを用いた位置決め制御
- 単結晶シリコンの異方性エッチングによるマイクロスライダの製作
- 分子線エピタキシによる超精密加工(第4報) -分子線入射量が表面性状に及ぼす影響-
- 顕微画像による微小物体の三次元運動計測
- 高能率, 高精度異方性エッチング条件の選定指針
- 高速・高精度制御実現のための制御アルゴリズムに関する研究(第1報) : 修正デルタオペレータの提案
- 分子線エピタキシ(MBE)による超精密加工(第3報)-表面拡散が表面性状に及ぼす影響-
- リアルタイム制御システムの構成 -修正デルタオペレータの適用-
- 精密工学の温故知新と新たな潮流(精密工学の温故知新と新たな潮流)
- 研削過程のシミュレーションに関する研究(第2報) : 砥石の砥粒切れ刃分布特性
- 人材育成