佐々木 智憲 | 東京都産業技術研究セ
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概要
関連著者
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佐々木 智憲
東京都立産業技術研究センター
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佐々木 智憲
東京都産業技術研究セ
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楊 明
首都大学東京大学院工学研究科
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楊 明
神戸大学 工学部 応用化学科
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楊 明
東京都立大学工学部
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楊 明
東京都立大学大学院工学研究科
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加沢 エリト
(地独)東京都立産業技術研究センター
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諸貫 信行
首都大
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古川 勇二
東京都立大学
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諸貫 信行
東京都立大学大学院
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古川 勇二
職業能力開発総合大学校
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古川 勇二
東京農工大学
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上野 武司
東京都立産業技術研究所
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加沢 エリト
東京都立産業技術研究所
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前田 龍太郎
独立行政法人 産業技術総合研究所
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楊 明
首都大学東京
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前田 竜太郎
産業技術総合研 集積マイクロシステム研究セ
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佐々木 智憲
都産技研
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佐々木 智憲
東京都立大学大学院工学研究科
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藤本 絹子
東京都立大学大学院工学研究科
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高橋 正春
独立行政法人産業技術総合研究所
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吉田 裕道
東京都立産業技術研究所
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齋藤 いほえ
東京都立産業技術研究所
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前田 龍太郎
独立行政法人 産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門
著作論文
- インプリント法によるガラス製マイクロ化学チップの開発
- 低エネルギーイオン支援によるスパッタ薄膜の高性能化
- 金属膜付シリコンマイクロプローブの機械特性
- CAE援用ナノインデンテーション法を用いた薄膜の異方性機械的特性評価 (特集1 トライボロジー試験・測定技術)
- 2406 低エネルギーイオン照射による金属薄膜の機械特性の改善(J22-2 材料特性計測とマイクロ機構,J22 マイクロメカトロニクス,2005年度年次大会)
- 低エネルギーイオン照射による金属薄膜性状に与える影響
- ウェットプロセス膜の低エネルギーArイオン照射による高性能化
- マイクロマシン用金属薄膜の高性能化
- 光導波路構造のSPRセンサ
- 電気化学的手法によるマイクロ加工
- りん酸による銅の電解研摩