金子 新 | 東京都立大学大学院
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概要
関連著者
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金子 新
首都大
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金子 新
東京都立大学大学院
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諸貫 信行
首都大
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諸貫 信行
首都大学東京システムデザイン学部
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諸貫 信行
東京都立大学大学院
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古川 勇二
職業能力開発総合大学校
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角田 陽
首都大
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古川 勇二
東京都立大学
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古川 勇二
東京農工大学
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角田 陽
東京都立大学大学院
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角田 陽
東京高専
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諸貫 信行
首都大学東京
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金子 新
首都大学東京
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諸貫 信行
都立大
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金子 新
都立大
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高山 明典
東京都立大学大学院工学研究科:(現)キヤノン(株)
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高田 健一郎
首都大
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内山 翔
首都大
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藤山 孝太郎
東京都立大学大学院
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角田 陽
都立大
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高山 明典
東京都立大学大学院工学研究科
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小木曽 淳一
東京都立大学大学院
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小木曽 淳一
オリンパス(株):(元)東京都立大学大学院
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張 文儒
首都大
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古川 勇二
東京農工大学工学府機械システム工学専攻
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西尾 学
首都大
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金森 義仁
首都大
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内山 翔
都立大
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笹山 広治
シーアイ化成
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有賀 泰祐
首都大学東京
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水越 拓真
東京都立大学
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内田 和明
首都大
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梶田 大毅
首都大
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小林 隼人
首都大
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小木曽 淳一
オリンパス(株)
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柴田 智英
東京都立大学
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龍 健太郎
東京都立大学
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崔 暁康
鄭州軽工業学院
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吉田 文人
都立大
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内山 賢治
日本大学
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高山 明典
都立大
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内山 賢治
東京都立大学大学院 工学研究科
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田中 靖紘
首都大
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高田 健
首都大学東京
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藤山 孝太郎
東京都立大学大学院:(現)ヤマハ(株)
著作論文
- T1101-2-4 滑り防止のための手すり表面微細構造設計(マイクロナノ理工学:nmからmmまでの表面制御とその応用(2))
- T1101-1-4 パターン基板へ自己整列を用いた異種粒子複合構造の作製(マイクロナノ理工学:nmからmmまでの表面制御とその応用(1))
- C04 壁面微細構造による液体の効率的除去(OS-12 ナノ加工と表面機能(1))
- 414 ナノ粒子の大面積自己整列とエッチングマスク応用に関する研究(T03-3 マイクロナノ理工学:nmからmmまでのテクスチャリングの創成と機能(3),大会テーマセッション,21世紀地球環境革命の機械工学:人・マイクロナノ・エネルギー・環境)
- 405 転倒事故防止のための床面表面微細構造設計(T03-1 マイクロナノ理工学:nmからmmまでのテクスチャリングの創成と機能(1),大会テーマセッション,21世紀地球環境革命の機械工学:人・マイクロナノ・エネルギー・環境)
- 21419 フィルムへの微粒子整列に関する研究(MEMS,OS.1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS),学術講演)
- 21418 表面微細構造を利用した液体の効率的排除(MEMS,OS.1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS),学術講演)
- 21717 表面微細構造による濡れと流動の異方性とその応用(流動,OS.12 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS))
- 330 表面微細構造による床材の摩擦特性改善(OS-16 微細加工と表面機能)
- 326 自己整列化微粒子をマスクとした表面微細加工とその光学特性(OS-16 微細加工と表面機能)
- 濡れ性パターンを用いた微粒子の自己整列(第1報) : 手法の提案と整列条件の検討
- エピタキシャル成長における3次元島形成を利用したナノテクスチャ創成に関する研究
- 20304 ぬれ性パターン上における液体の挙動と微粒子整列への応用(OS14 機能性マイクロデバイスの創製・評価)
- 521 振動加工のための微小工具の機上成形(OS7 ナノ・マイクロ加工)
- 520 多軸振動工具を用いた表面テクスチャリング(OS7 ナノ・マイクロ加工)
- 濡れ性制御のためのテクスチャ設計(流体工学,流体機械)
- 1524 テクスチャによる固体表面の濡れ性制御に関する研究
- 分子線エピタキシによる面創成に関する研究(第3報) : Si-Siホモエピタキシャル成長機構における結晶異方性
- 分子線エピタキシによる面創成に関する研究(第2報) : 基板面方位とSi-Siホモエピタキシャル成長機構の関係
- 分子線エピタキシによる面創成に関する研究(第1報) : 付着分子エネルギーおよび付着分子密度がSi-Siホモエピタキシャル成長機構に及ぼす影響
- 表面テクスチャによる漏れ性制御の試み
- テクスチャ化したすべり面の摩擦方向性を利用した微小物体の駆動
- Si-MBEによるナノテクスチャ面の創成 : Si(100)基板におけるメサ上での3次元島の配列
- 分子線エビタキシによる超精密加工(第10報)-(100)SiへのSi成長における基板温度の影響-
- 分子線エビタキシによる超精密加工(第9報)-(100)および(110)Siにおける平滑化過程の相違-
- 分子線エピタキシによる超精密加工(第8報) -(100)および(110)Si基板の平面創成過程-
- 分子線エピタキシによる超精密加工(第7報) -創成面の形状解析-
- 分子線エピタキシによるSiC平滑面の創成(第1報) -Si基板上へのSiC成長-
- 分子線エピタキシによる超精密加工(第4報) -分子線入射量が表面性状に及ぼす影響-
- 親水/疎水パターンによる自律的液滴移動に関する研究
- T1602-1-1 表面微細構造が液滴の転落角と接触角ヒステリシスに及ぼす影響とその定式化([T1602-1]マイクロナノ理工学:nmからmmまでの表面制御とその応用(1))
- T1602-3-2 微粒子自己整列の大面積化([T1602-3]マイクロナノ理工学:nmからmmまでの表面制御とその応用(3))
- 微細構造化による安全安心な表面設計 : 手足に触れる人工物表面の摩擦制御と滑り防止 (デザインシンポジウム特集論文)
- 20312 ディスペンサと精密ステージの組合せによる微粒子のパターン化自己整列(OS3 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS)(4),オーガナイズドセッション)