小田中 紳二 | 松下電子工業

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• 小田中 紳二

  松下電子工業

• 小田中 紳二

  松下電子工業(株)プロセス開発センター

• 合田 明彦

  松下電子工業(株)プロセス開発センター

• 小田中 紳二

  松下電器産業(株)半導体研究センター

• 三坂 章夫

  松下電器産業株式会社半導体社事業本部プロセス開発センター

• 三坂 章夫

  松下電子工業(株)プロセス開発センター

• 海本 博之

  松下電器産業(株)半導体研究センター

• 小田中 紳二

  大阪大学サイバーメデアセンターコンピュータ実験科学

• 堀 敦

  松下電器産業(株)、半導体研究センター

• 中岡 弘明

  松下電器産業(株)、半導体研究センター

• 山下 恭司

  松下電器産業(株)半導体研究センター

• 栗本 一実

  松下電子工業(株)京都研究所

• 山下 恭司

  松下電子工業(株)プロセス開発センター

• 堀 敦

  松下電子工業(株)プロセス開発センター

• 掘 敦

  松下電子工業(株)プロセス開発センター

• 広木 彰

  松下電器半導体研究センター

• 中岡 弘明

  松下電器産業(株)半導体研究センター

• 水野 文二

  UJTラボ

• 合田 明彦

  松下電器産業(株)半導体研究センター

• 三坂 章夫

  松下電器産業(株)半導体研究センター

• 高瀬 道彦

  松下電器産業(株)、半導体研究センター

• 水野 文二

  松下電器産業(株)、半導体研究センター

• 栗本 一実

  松下電器産業半導体研究センター

• 宮永 績

  松下電器産業半導体研究センター

• 水野 文二

  松下電器産業

• 小田中 紳二

  松下電器半導体研究センター

• 広木 彰

  松下電器産業(株) 半導体研究センター

• 高瀬 道彦

  松下電器産業(株)中央研究所

• 三坂 章夫

  松下電器産業(株)

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著作論文

• 光近接効果補正を考慮した統計的ゲートCD制御手法の開発
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• 光近接効果補正を考慮した統計的ゲートCD制御手法の開発
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• 光リソグラフィプロセスの統計的設計のための応答曲面関数(RSF)の導出
• 室温動作0.05μm-CMOSの試作と評価 : サブ0.1μm-MOSFETの可能性とデバイスデザイン
• 低電圧動作CMOSデバイスにおけるゲートドレイン間容量低減の効果
• テーブル回路モデルを用いた電気・熱的静電破壊(ESD)解析シミュレーション
• サブ0.1ミクロンMOSデバイスに向けたモンテカルロシミュレーション技術
• 非対称なチャネル不純物分布を有する高性能0.1um MOSFET

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