水野 文二 | 松下電器産業
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概要
関連著者
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水野 文二
松下電器産業
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水野 文二
松下電器産業(株)、半導体研究センター
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高瀬 道彦
松下電器産業(株)、半導体研究センター
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松下電器産業(株)中央研究所
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松下電子工業(株)プロセス開発センター
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水野 文二
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松下電器産業(株)
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松本 茂
松下電器産業(株)
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水野 文二
UJTラボ
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松下電子工業(株)プロセス開発センター
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海本 博之
松下電器産業(株)半導体研究センター
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松下電器産業(株)、半導体研究センター
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松下電器産業(株)、半導体研究センター
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松下電器産業(株)半導体研究センター
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水野 文二
(株)ユー・ジェー・ティー・ラボ
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中田 一樹
松下電器産業(株)半導体研究センター
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萩 俊夫
松下電器産業(株)半導体研究センター
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水野 文二
松下電器R&D企画室
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谷村 彰一
半導体研究センター
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谷村 彰一
松下電器産業(株)
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中岡 弘明
松下電器産業(株)半導体研究センター
著作論文
- 室温動作0.05μm-CMOSの試作と評価 : サブ0.1μm-MOSFETの可能性とデバイスデザイン
- 0.15μm以降のMOSトランジスタに向けたプラズマドーピング技術
- 『プラズマドーピングを用いて作成したpMOSFETのデバイス特性』
- 『プラズマドーピングを用いて作成したpMOSFETのデバイス特性』
- 超低エネルギードーピング-プラズマドーピング-
- プラズマドーピング技術
- プラズマイオン注入 -プラズマドーピング-
- フェイルビットマップ相関解析システム
- プラズマドーピング技術