GOO Tae-Gyu | Dept. of Electronics Engineering, Chungnam National University

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概要

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著作論文

New Observation of NBTI Degradation and Recovery Effect of Plasma Nitrided Oxide in Nano Scale PMOSFET's
Temperature effects on silicon-oxide-nitride-oxide-silicon transistors under channel hot electron injection operation (Electron devices: 第15回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2007))
Temperature effects on silicon-oxide-nitride-oxide-silicon transistors under channel hot electron injection operation (Silicon devices and materials: 第15回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2007))
Ramping Amplitude Multi-Frequency Charge Pumping Technique for Silicon-Oxide-Nirtride-Oxide-Silicon Flash EEPROM Cell Transistors
Near Surface Oxide Trap Density Profiling in NO and Remote Plasma Nitrided Oxides in Nano-Scale MOSFETs, Using Multi-Temperature Charge Pumping Technique : N_ vs. Oxide Processing

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