和田 恭雄 | 日立基礎研 Crest

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概要

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関連著者

• 和田 恭雄

  日立基礎研 Crest

• 橋詰 富博

  日立基礎研

• 橋詰 富博

  東北大WPI-AIMR

• 渡邊 聡

  東大工

• 小野 義正

  日立

• 渡邊 聡

  新技団青野プロジェクト

• 渡邊 聰

  東大工

• 渡邊 聰

  東大 大学院

• 小野 義正

  日立基礎研

• 和田 恭雄

  (株)日立製作所基礎研究所

• 渡邊 聡

  日立基礎研

• 平家 誠嗣

  日立基礎研

• 平家 誠嗣

  株式会社日立製作所基礎研究所

• 市村 雅彦

  日立基礎研

• 小野木 敏之

  日立基礎研

• 塚田 捷

  東大理

• 和田 恭雄

  日立 基礎研

• 遠藤 潤二

  科学技術振興事業団crest

• 市村 雅彦

  東北大金研:日立基礎研

• 橋口 原

  香川大学工学部

• 藤田 博之

  東大生産研

• 三田 信

  JAXA

• 陳 軍

  東京工芸大学工学部光情報メディア工学科

• 藤田 博之

  東京大学生産技術研究所マイクロメカトロニクス国際研究センター

• 山内 淳

  慶大理工

• 年吉 洋

  東京大学生産技術研究所マイクロメカトロニクス国際研究センター

• 年吉 洋

  東京大学 生産技術研究所

• 年吉 洋

  東京大学生産技術研究所

• 三田 信

  東京大学生産技術研究所

• 陳 軍

  東京工芸大

• 遠藤 潤二

  日立基礎研究

• 小林 大

  科学技術振興事業団

• 橋口 原

  香川大学

• 小林 大

  東京電機大学

• 遠藤 潤二

  (株)日立製作所

• 矢島 章雄

  東大理

• 山内 淳

  東大理

• 渡邉 聡

  東大院工学系

• 小野木 敏行

  日立基礎研

• 渡邊 聰

  日立基礎研

• 藤田 博之

  東京大学生産技術研究所

• 橋口 原

  Research Institute Of Electronics Shizuoka University

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著作論文

• 電子干渉計測によるナノ構造と電界分布の可視化の試み
• シリコンマイクロマシニングによるステップアクチュエータ (マイクロマシン)
• 29p-R-8 ナノ構造を用いた表面準位電気伝導度の直接測定
• 1p-YA-4 原子プロキシミティー場の実現に向けて
• 5a-B-6 水素終端シリコン表面上のガリウム原子細線の理論計算 : 強磁性発現の可能性
• 5a-B-2 水素終端シリコン(100)表面上の原子細線の電子状態
• 水素終端シリコン表面上の未結合ボンド細線におけるガリウム原子吸着の安定構造と電子状態の理論計算
• 31p-PSB-32 水素終端シリコン表面上の原子サイズ細線の電子状態の理論計算II
• 30a-PS-7 水素終端シリコン表面上の原子サイズ細線の電子状態の理論計算

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