橘 邦英 | 京都工芸繊維大学

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概要

• 同名の論文著者
• 京都工芸繊維大学の論文著者

関連著者

• 橘 邦英

  京都工芸繊維大学

• 橘 邦英

  愛媛大学大学院工学研究科電子情報工学専攻

• 橘 邦英

  京都大学

• 橘 邦英

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 坂井 徹男

  (有)ディスプレイ研究所

• 村上 由紀夫

  NHK放送技術研究所

• 高橋 一夫

  松下電器産業

• 坂井 徹男

  NHK放送技術研究所

• 高橋 一夫

  松下電子工業(株)電子総合研究所

• 林 康明

  京都工芸繊維大学大学院

• 白藤 立

  京都大学

• 橋口 征四郎

  京都工芸繊維大学

• 林康 明

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 白藤 立

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 林 康明

  京都工芸繊維大学大学院工芸科学研究科

• 浦野 芳雄

  京都工芸繊維大

• Hayashi Yutaka

  Device Synthesis Section Electrotechnical Laboratory

• 橘 邦英

  京都大学大学院工学研究科

• 橋口 征四郎

  京工芸繊維大

• 竹井 誠

  松下電子工業(株)電子総合研究所

• Hayashi Yuzo

  Irie Koken Co. Ltd.

• 播磨 弘

  京都工芸繊維大学

• 播磨 弘

  京都工芸繊維大学工芸学部

• 橘 邦英

  京都工繊大工芸

• 播磨 弘

  京工繊大

• 結城 昭正

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 浦野 芳雄

  京都工繊大工芸

• 福造 幸雄

  京都工芸繊維大

• 高野 善道

  NHK放送技術研究所

• 柴田 明

  福井工業高等専門学校

• 中島 伸二

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 松崎 秀臣

  NHK放送技術研究所

• 中山 孝文

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 森田 訓子

  三菱電機(株)生産技術センター

• 沖村 邦雄

  東海大学電子工学科

• 沖村 邦雄

  福井工業高等専門学校

• 結城 昭正

  三菱電機

• 結城 昭正

  三菱電機(株)

• 川原 孝昭

  三菱電機 先端技総研

• 結城 昭正

  三菱電機 先端技術総合研究所

• 結城 昭正

  三菱電機 先端技総研

• 松井 安次

  三菱電機 中研

• 松井 安次

  三菱電機 Ulsi開研

• 小杉 直貴

  松下電子工業(株)

• 坂井 徹男

  NHK技術研究所映像デバイス研究部

• 村上 由紀夫

  NHK技術研究所映像デバイス研究部

• Hayashi Y

  Irie Koken Co. Ltd. Saitama Jpn

• 星之内 進

  三菱電機(株)

• 森田 達夫

  シャープ

• 祝部 潔

  東洋大

• 深沢 真一郎

  芝浦工大

• 祝部 潔

  東洋大学工学部

• 深沢 真一郎

  芝浦工業大学工学部

• 森田 訓子

  三菱電機(株)

• 沖村 邦雄

  Tokai Univ. Kanagawa Jpn

• 播磨 弘

  京都工芸繊維大学 工芸学部

• 松井 安次

  三菱電機株式会社中央研究所

• 川原 孝昭

  三菱電機 (株) 中央研究所

• 結城 昭正

  三菱電機 (株) 中央研究所

• 橘 邦英

  京都工芸繊維大学工芸学部 電子情報工学科

• 橘 邦英

  京都工芸繊維大学電子工学科

• 橘 邦英

  京都工芸繊維大学・工芸

• 浦野 芳雄

  京都工芸繊維大学・工芸

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著作論文

• イオンプレーティングにおけるAl-Ar混合気体放電のプラズマパラメータとAlのイオン化率
• ミ-散乱エリプソメトリ- -プラスマ中微粒子成長過程の新しいインプロセス計測法-
• 4p-W-1 微粒子プラズマに関する最近の話題
• プラズマCVDによるpoly-Si膜の低温形成過程のインプロセス偏光解析モニタリング
• 30a-B-5 Sr 共鳴線の希ガスによる衝突拡がり
• 4a-T-1 Sr共鳴線のXeガスによる衝突拡がり
• 2-5 放電型ディスプレイにおける放電開始電圧の解析
• カラー放電パネル(PDP)用セルの諸特性(II) : パルス放電の一次元シミュレーション
• カラーPDP用He-Xe気体放電のシミュレーション : 発光型ディスプレイ話題別研究会 : 情報ディスプレイ(発光型ディスプレイ特集)
• 顕微分光法によるPDPセル内の励起原子密度の時間空間測定(1) : 情報ディスプレイ
• 4-9 カラー放電パネル(PDP)用セルの諸特性(III) : Xeの分子線発光の残光時間
• カラー放電パネル(PDP)用セルの諸特性(I) : パルス放電の分光測定
• 非平衡低温プラズマと原子分子衝突
• 光CVDのプロセスモデリングと薄膜形成への応用 (フォーラム「膜形成プロセスとその応用」)
• 薄膜トランジスタ用多結晶シリコンの低温堆積過程
• SiF_4/SiH_4/H_2混合ガスRF放電プラズマCVDによるポリシリコン堆積過程のその場分光エリプソメトリー
• 放電セルの低電流領域における諸特性(その4) : VUV発光波形と考察
• プラズマプロセスの現状と将来(最新のプラズマプロセス技術)
• 27p-ZA-4 スオーム実験による稀ガスの電子衝突励起係数と励起断面積
• 1p-T-2 材料プロセス用反応性プラズマにおける原子・分子過程
• 5p-I-5 RF放電における分子の解離過程とプラズマ・パラメータ
• SiH4プラズマCVDにおける膜前駆ラジカル組成に関する研究
• プラズマプロセスにおける気相・界面反応
• 光工学と分光学-2-プラズマプロセスにおける分光計測
• 1p-CD-11 Srイオン共鳴線のすそ領域衝突拡がりと原子間相互作用(原子・分子,第41回年会)

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