結城 昭正 | 三菱電機
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概要
関連著者
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結城 昭正
三菱電機
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結城 昭正
三菱電機(株)先端技術総合研究所
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川原 孝昭
三菱電機
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三菱電機
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斧 高一
三菱電機
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三菱電機 先端技総研
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結城 昭正
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三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部
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三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部
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斧 高一
三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部
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結城 昭正
三菱電機(株)
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黒岩 丈晴
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黒岩 丈晴
三菱電機(株)
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三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部
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三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部
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三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部
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三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部
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三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部
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三菱電機(株)先端技術総合研究所プロセス基礎技術部
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三菱電機株式会社先端技術総合研究所
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川原 孝昭
三菱電機(株)先端技術総合研究所
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堀川 剛
三菱電機(株)
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蒔田 哲郎
三菱電機(株)京都製作所
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三菱電機(株)先端技術総合研究所
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三上 登
三菱電機(株)
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三菱電機 先端技術総合研究所
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結城 昭正
三菱電機 先端技術総合研究所
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橘 邦英
京都大学
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川原 孝昭
三菱電機 先端技総研
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橘 邦英
京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
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三菱電機(株)
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森田 訓子
三菱電機(株)
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川原 孝昭
三菱電機 (株) 中央研究所
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結城 昭正
三菱電機 (株) 中央研究所
著作論文
- 高誘電率材料(Ba,Sr)TiO_3を用いた1G DRAM対応キャパシタ技術
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- 溶液気化CVD法による(Ba, Sr)TiO_3高誘電率薄膜形成
- 溶液気化CVD法による(Ba,Sr)TiO_3高誘電率薄膜の形成技術
- 光CVDのプロセスモデリングと薄膜形成への応用 (フォーラム「膜形成プロセスとその応用」)