川原 孝昭 | 三菱電機 先端技総研

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• 川原 孝昭

  三菱電機 先端技総研

• 結城 昭正

  三菱電機 先端技総研

• 川原 孝昭

  三菱電機 (株) 中央研究所

• 結城 昭正

  三菱電機 (株) 中央研究所

• 結城 昭正

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 結城 昭正

  三菱電機 先端技術総合研究所

• 松井 安次

  三菱電機 Ulsi開研

• 番条 敏信

  三菱電機 北伊丹製作所

• 蔦原 晃一郎

  三菱電機 北伊丹製作所

• 番條 敏信

  三菱電機 (株) 北伊丹製作所

• 蔦原 晃一郎

  三菱電機 (株) 北伊丹製作所

• 橘 邦英

  京都工芸繊維大学

• 川原 孝昭

  三菱電機

• 山向 幹雄

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• 斧 高一

  三菱電機

• 結城 昭正

  三菱電機

• 山向 幹雄

  三菱電機 先端技術総合研究所

• 斧 高一

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• 松井 安次

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  三菱電機 (株) 福岡製作所

• 山口 徹

  三菱電機 (株) 北伊丹製作所

• 川原 孝昭

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• 結城 昭正

  三菱電機 (株) 半導体基礎研究所

• 橘 邦英

  京都工芸繊維大学工芸学部 電子情報工学科

• 松井 安次

  三菱電機 (株) 中央研究所

• 松井 安次

  三菱電機 (株) 半導体基礎研究所

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著作論文

• 溶液気化CVD法による(Ba,Sr)TiO_3高誘電率薄膜の形成技術
• SiH4プラズマCVDにおける膜前駆ラジカル組成に関する研究
• TEOS/O3常圧CVD反応解析と装置開発
• 枚葉型SiH4/O2常圧CVD装置の開発

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