溶液気化CVD法による(Ba,Sr)TiO_3高誘電率薄膜の形成技術
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概要
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- 1995-11-14
著者
-
川原 孝昭
三菱電機
-
山向 幹雄
三菱電機
-
斧 高一
三菱電機
-
結城 昭正
三菱電機
-
結城 昭正
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
川原 孝昭
三菱電機 先端技総研
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山向 幹雄
三菱電機 先端技術総合研究所
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結城 昭正
三菱電機 先端技術総合研究所
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斧 高一
三菱電機 先端技術総合研究所
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結城 昭正
三菱電機 先端技総研
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川原 孝昭
三菱電機 (株) 中央研究所
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結城 昭正
三菱電機 (株) 中央研究所
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